孚光精儀(中國)有限公司
光刻掩膜版專業用于微電子高精度光刻掩膜而設計,采用鹵化銀感光物質,也可用于同步加速器設備中的布拉格衍射X射線斷層攝影和X射線放射成像
平均敏感度,ISO 負面過程: 反轉過程: | 0.02 0.04 |
對比度不小于 | 5 |
。 密度不小于 | 3 |
光譜敏化值,nm: | 525 |
光譜敏化區,nm: | 400-565 |
霧密度不大于 | 0.02 |
分辨力,mm-1,不小于: | 3,000 |
乳液層強度加工后,kg力,不小于 | 0.9 |
乳液層溫度變形,oC,不小于: | 55 |
VRP材料的推薦加工用于面膜生產 | ||
負過程 | 溶液溫度 | |
曝光 | ||
顯影 | 研制在蒸餾水中稀釋的濃縮VRP顯影劑1:5,4-5min | 20 |
沖洗 | 水3分鐘 | 17±2 |
固定 | 固定器5-10分鐘 | 20 |
洗滌 | 水3分鐘 | 17±2 |
最終洗滌 | 水用潤濕劑(Agepon)1min | 17±2 |
干燥 | 慢氣 | 20±4 |
沖銷過程 | ||
曝光 | ||
顯影 | 在蒸餾水中稀釋的濃縮VRP顯影劑1:1.7,4.5min | 20 |
沖洗 | 水洗3分鐘 | 17±2 |
漂白 | 漂白,1.5分鐘 | 20 |
沖洗 | 水洗3分鐘 | 17±2 |
增亮 | 增亮劑3分鐘 | 20 |
沖洗 | 水沖洗5分鐘 | 17±2 |
照明 | 500W燈,距離乳液70厘米,1分鐘 | |
第二顯影 | 稀釋在蒸餾水中的顯影濃縮VRP顯影劑1:5-3分鐘 | 20 |
沖洗 | 水沖洗1分鐘 | 17±2 |
固定 | 固定器,2分鐘 | 20±4 |
沖洗 | 水洗3分鐘 | 17±2 |
最終洗滌 | 帶潤濕劑的水(Agepon)1min | 17±2 |
干燥 | 慢氣 | 20±4 |
用于X射線層析成像和放射照相術的VRP光刻掩膜版材料處理方案 | ||
程序 | 化學制品 | 溫度 |
曝光 | ||
顯影 | 柯達RP X-OMAT顯影,5分鐘 | 20 |
洗滌 | 2分鐘 | 17±2 |
固定 | 柯達RP X-OMAT LO固定器,5分鐘 | 20 |
洗滌 | 水10分鐘 | 17±2 |
干燥 | 慢氣 | 20±4 |
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