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薄膜溶解測厚儀

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產(chǎn)品型號(hào)FPTHE-FR-liquid

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更新時(shí)間：2021-08-19 12:21:54瀏覽次數(shù)：86次

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孚光精儀（中國）有限公司

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產(chǎn)品簡介

這款薄膜溶解測厚儀用于實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜在液體中薄膜厚度變化和光學(xué)常量（n,k)變化，的薄膜溶解測量儀和薄膜溶解測試儀

詳細(xì)介紹

這款薄膜溶解測厚儀用于實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜在液體中薄膜厚度變化和光學(xué)常量（n, k)變化，的薄膜溶解測量儀和薄膜溶解測試儀。為了這種特色的測量，我們特意為薄膜溶解測厚儀研發(fā)了Teflon樣品池用于測量薄膜樣品，使用一種岔頭探針?biāo)桨惭b在Teflon 樣品池的外部，距離玻璃窗口非常接近，使用白光反射光譜技術(shù)（WLRS)，實(shí)時(shí)測量薄膜厚度和折射率，并通過專業(yè)軟件記錄下這些數(shù)據(jù)。
另外，根據(jù)需要，我們還能夠在測量區(qū)域下安裝攪拌裝置stirrer，提供力學(xué)激勵(lì)振動(dòng)。
我們還特意為該薄膜溶解測量儀提供垂直的樣品夾具，以固定小尺寸的硅樣品或3''，4''直徑的Si 晶圓。

薄膜溶解測量儀根據(jù)溶解過程的不同，如溶解速度的不同，該薄膜溶解測試儀能夠以實(shí)時(shí)或離線的方式測量，反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲(chǔ)下來以便后續(xù)處理使用。
這套薄膜溶解測量儀,還能夠測量幾十個(gè)納米厚度的光致抗蝕劑和聚合物薄膜堆的溶解過程。薄膜溶解測試儀而且還可以測量薄膜的膨脹等特殊現(xiàn)象。
對(duì)于薄膜厚度的測量，薄膜溶解測厚儀需要光滑，具有反射性的襯底，對(duì)于光學(xué)常數(shù)測量，平整的反射襯底即可滿足測量需要。如果襯底是透明的，襯底的背面不能具有反射性。該薄膜溶解分析儀能夠給出兩個(gè)參數(shù)：例如兩個(gè)薄膜的厚度或一個(gè)薄膜的厚度和光學(xué)常量。
這套薄膜溶解測厚儀已經(jīng)成功應(yīng)用于測量反射襯底（Si晶圓）上各種光滑，透明或輕度吸收薄膜的溶解過程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蝕劑薄膜，聚合物薄膜層等。
薄膜溶解測厚儀標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)
可測膜厚： 5nm-150微米；
波長范圍：200-1100nm
精度：0.5%
分辨率：0.02nm
測量點(diǎn)光斑大?。?.5mm
可測樣品大?。?0-100mm
計(jì)算機(jī)要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；
尺寸：360x400x180mm
重量：15kg
電力要求：110/230VAC
薄膜溶解測厚儀應(yīng)用：
聚合物薄膜
光致抗蝕劑薄膜測量
化學(xué)和生物薄膜測量，傳感測量
光電子薄膜結(jié)構(gòu)測量
在線測量
光學(xué)鍍膜測量
能夠以實(shí)時(shí)或離線的方式測量，反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲(chǔ)下來以便后續(xù)處理使用。
這款薄膜溶解測量儀用于實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜在液體中的薄膜厚度和光學(xué)常量（n, k)的變化,是測量薄膜溶解速度的薄膜溶解分析儀.

關(guān)鍵詞：測厚儀測量儀標(biāo)準(zhǔn)

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