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3D激光共聚焦形貌顯微鏡

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產(chǎn)品型號FPNAN-NS-3600

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更新時間：2021-08-16 16:04:33瀏覽次數(shù)：108次

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孚光精儀（中國）有限公司

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產(chǎn)品簡介

3D激光共聚焦形貌顯微鏡是一種高速共焦激光掃描顯微鏡（CLSM），用于精確可靠的三維測量，從一系列光學(xué)剖切圖像中提供目標(biāo)物體的三維描述，通過該算法，橫截面圖像被直接轉(zhuǎn)換為三維輪廓數(shù)據(jù)

詳細介紹

3D激光共聚焦形貌顯微鏡是一種高速共焦激光掃描顯微鏡（CLSM），用于精確可靠的三維測量，從一系列光學(xué)剖切圖像中提供目標(biāo)物體的三維描述，通過該算法，橫截面圖像被直接轉(zhuǎn)換為三維輪廓數(shù)據(jù)。這種*的原始截面圖像，直觀地解釋，使表面輪廓數(shù)據(jù)優(yōu)于其他光學(xué)技術(shù)。

3D激光共聚焦形貌顯微鏡特點
-高分辨率無損光學(xué)三維測量
-實時共焦成像
-各種光學(xué)變焦
-同時亮場和共焦成像
-具有精細自動聚焦的自動增益搜索
-傾斜補償
-簡易分析模式
-精密可靠的高速測高
-通過半透明基板檢查特征
-無樣品制備
-寬范圍檢測的圖像拼接
3D激光共聚焦形貌顯微鏡應(yīng)用
-半導(dǎo)體：IC圖形，凸點高度，線圈高度，缺陷檢查，CMP工藝
-FPD產(chǎn)品：觸摸屏檢查，ITO圖案，LCD柱墊高度
-MEMS器件：結(jié)構(gòu)的三維輪廓，表面粗糙度，MEMS圖形
-玻璃表面：薄膜太陽能電池，太陽能電池紋理，激光圖案
-材料研究：模具表面檢查，粗糙度，裂紋分析

3D激光共聚焦形貌顯微鏡測量表面粗糙度
3D激光共聚焦形貌顯微鏡規(guī)格參數(shù)

型號	顯微鏡	NS-3600				Remark
物鏡放大倍數(shù)		10×	20×	50×	100×
觀察/ 測量范圍	水平 (H): μm	1400	700	280	140
觀察/ 測量范圍	豎直 (V): μm	1050	525	210	105
工作距離: mm		17.5	4.5	1.0	1.0
數(shù)值孔徑 (N.A.)		0.30	0.45	1.0	1.0
觀察/測量的光學(xué)系統(tǒng)		小孔聚焦光學(xué)系統(tǒng)
Height Measurement	Measuring scan range	10 mm
	Display resolution	0.001 µm
	Repeatability σ	0.02 µm				Note 1
Width measurement	Display resolution	0.001 µm
Width measurement	Repeatability 3σ	0.03 µm				Note 2
Frame memory	Pixel count	1024x1024, 1024×768, 1024×384, 1024×192, 1024×96
	For confocal image	12 bit
	For color image	8-bit for RGB each
	For height measurement	16 bit
Frame rate	Surface scan	20 Hz to 160 Hz
Frame rate	Line scan	~8 kHz
Laser beam light source for confocal measurement	Wavelength	Red laser, 638 nm
	Output	~2 mW
	Laser Class	Class 3b
Laser light-receiving element		PMT (photomultiplier tube)
Light source for optical observation	Lamp	LED
Color camera for Optical observation	Imaging element	Color CCD image sensor
Color camera for Optical observation	Recording resolution	1296x966
Data processing unit		Dedicated PC
Power supply	Power-supply voltage	100 to 240 VAC, 50/60 Hz
Power supply	Current consumption	500 VA max.
Weight	Microscope	Approx. ~50 kg (Measuring head unit : ~12.5 kg)
Weight	Controller	~8 kg
Vibration isolating system		Pneumatic isolator

Note 1 :
100 times measurement of standard sample (1µm step height) with 100× / 0.9 objective.
Note 2 :
100 times measurement of standard sample (5µm pitch) with 100× / 0.9 objective.

關(guān)鍵詞：顯微鏡觸摸屏

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