XTC/3薄膜沉積控制器 可編程自動化控制器 返回列表頁

XTC/3薄膜沉積控制器技術*，經濟實惠，可對單層或多層薄膜進行速率控制

立即了解用于單層和多層過程的薄膜沉積控制器的詳細信息。XTC/3 帶有，提供跳模預防功能，確保獲得始終如一的質量。使用 XTC/3 薄膜沉積控制器，您可以高度精確地控制沉積速率和厚度，獲得幾乎適用于所有層的容量，而且控制器安裝簡便，具有*可靠性，可確保高生產力。XTC/3薄膜沉積控制器是薄膜沉積控制領域的*，現在提供的這款儀器具有極低的擁有成本，可為客戶帶來*的價值。

無論您需要的是生產、研發還是開發方面的控制，您都將發現 INFICON XTC/3 能夠*滿足您的需求。

INFICON 支持

無論您身在何處，都可獲得快速回復、貼心服務以及長運行時間。INFICON 一家在設有本地服務與技術支持中心的薄膜沉積控制器制造商，其辦事處遍布。

• 提供有單層和多層型號
• 技術可避免跳模引起的薄膜厚度誤差
• 支持 Crystal 12^®、Crystal Six^® 和雙傳感器自動晶體轉換，從而大化生產力
• XTC/3M 多層型號多支持 99 個過程、999 層薄膜、32 種薄膜材料、2 個傳感器和兩種源
• XTC/3S 單層型號多支持 9 種薄膜、2 個傳感器和兩種源
• 易于閱讀的 TFT LCD 圖形顯示器
• 可以為薄膜和過程分配的描述性名稱，以便于檢索
• 提供以太網連接
• 獨立式（不需要計算機）或便于 PC 操作的可選 Windows^® 軟件
• 插拔式替換 INFICON XTC/2 控制器（受限于 XTC/2 功能和命令集）