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    塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司


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    技術(shù)文章

    文了解光學測量設備——HORIBA堀場橢偏儀

    閱讀:120發(fā)布時間:2024-10-16

    文了解光學測量設備——HORIBA堀場橢偏儀



    器件的制造是通過一系列**控制的加工工藝完成的,為了保證每步工序都能正確地進行,在每一個工藝步驟中都有許多測量和監(jiān)控技術(shù),其中光學測量由于其非接觸、無破壞、無污染的特點被廣泛使用。

    其中,光學測量的一項重要內(nèi)容是薄膜特性———例如厚度和光學性質(zhì)。目前,常用的光學測量技術(shù)根據(jù)其原理可分為: 光吸收法、干涉監(jiān)控法、偏振光分析法等。

    今天小編為大家介紹的這款橢偏儀采用偏振光分析法也稱為橢圓偏振光譜測量技術(shù)),該方法是利用偏振光在材料表面反射后,相應偏振態(tài)的改變來測量該材料的光學性質(zhì)。

    HORIBA堀場橢偏儀概況

    橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學測量設備。由于并不與樣品接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種**吸引力的測量設備。

    HORIBA堀場橢偏儀應用

    橢偏儀可測的材料包括:半導體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬、多層膜物質(zhì)。

    橢偏儀涉及領(lǐng)域有:半導體、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等。

    HORIBA堀場橢偏法測量優(yōu)點

    1、能測量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1~2個數(shù)量級。

    2、是一種無損測量,不必特別制備樣品,也不損壞樣品,比其他精密方法如稱重法、定量化學分析法簡便。

    3、可同時測量膜的厚度、折射率以及吸收率。因此可以作為分析工具使用。

    4、對一些表面結(jié)構(gòu)、表面過程和表面反應相當敏感,是研究表面物理的一種方法。

    HORIBA堀場橢偏儀的分類及介紹

    橢偏儀按照測試原理的不同,主要分為消光式和光度式兩類。大體可以分為PCSA 型消光式橢偏儀、旋轉(zhuǎn)偏振器件型橢偏儀、相位調(diào)制型橢偏儀、橢偏光譜儀、紅外橢偏光譜儀、成像橢偏儀和廣義橢偏儀

    HORIBA堀場橢偏儀廠家介紹

    今天,小編為大家介紹的這家橢偏儀廠家——HORIBA科學儀器事業(yè)部,公司總部自1953年成立,是一家分析檢測儀器和設備制造商,并且以其高精尖的產(chǎn)品成功地將市場拓展到了各個國家和地區(qū)。

    圖片1.png

    HORIBA 研究級全自動橢偏儀UVISEL 2

    技術(shù)參數(shù):

    光譜范圍:190-2100 nm

    8種光斑尺寸: 小35 X 85 um

    探測器:3個獨立探測器,分別優(yōu)化紫外,可見和近紅外

    自動樣品臺尺寸:200mm X 200mm;XYZ方向自動調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

    樣品水平度自動調(diào)整

    自動量角器:變角范圍35°- 90°,全自動調(diào)整,小步長0.01°

    圖片2.png

    HORIBA一鍵式全自動快速橢偏儀 Auto SE

    主要特點

    1. 液晶調(diào)制技術(shù),無機械轉(zhuǎn)動部件,重復性,信噪比高

    2. 技術(shù)成像技術(shù),所有樣品均可成像,對于透明樣品,自動去除樣品的背反射信號,使得數(shù)據(jù)分析更簡單

    3. 反射式微光斑,覆蓋全譜段,利于非均勻樣品圖案化樣品測試

    4. 全自動集成度高,安裝維護簡便

    5. 一鍵式操作軟件,快速簡單

    6. 自動MAPPING掃描,分析樣品鍍膜均勻性

    技術(shù)參數(shù)

    1. 光譜范圍:450-1000 nm

    2. 多種微光斑自動選擇

    3. 光斑可視技術(shù),可觀測任何樣品表面

    4. 自動樣品臺尺寸:200mmX200mm;XYZ方向自動調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

    5. 70度角入射

    6. CCD探測器


    HORIBA堀場科學儀器事業(yè)部:

    HORIBA堀場高靈敏一體式熒光光譜儀FluoroMax -
    HORIBA堀場模塊式熒光光譜儀Fluorolog-3
    HORIBA堀場熒光光譜儀Aqualog
    HORIBA 堀場原子力-拉曼聯(lián)用系統(tǒng)XploRA Nano
    HORIBA 堀場多功能拉曼及成像光譜儀XploRA INV
    HORIBA 堀場高速高分辨顯微共焦拉曼光譜儀LabRAM Odyssey
    HORIBA堀場高靈敏一體熒光光譜儀FluoroMax-4
    HORIBA堀場科研級熒光光譜儀 Fluorolog-3
    HORIBA堀場模塊化科研級穩(wěn)瞬態(tài)熒光光譜儀Fluorolog-QM
    HORIBA堀場OEM光譜儀VS7000


    HORIBA堀場科學儀器事業(yè)部激光粒度儀:
    HORIBA堀場激光粒度分布分析儀 LA-300
    HORIBA堀場激光散射粒徑分布分析儀LA-350
    HORIBA堀場激光粒度儀 LA-960 V2
    HORIBA堀場緊湊型激光粒度儀Partica mini LA-350
    HORIBA堀場真空紫外光譜儀.VTM300

    HORIBA堀場納米顆粒分析儀 SZ-100 V2
    HORIBA堀場納米顆粒追蹤分析儀

    HORIBA堀場科學儀器事業(yè)部:

    HORIBA堀場紅外碳硫分析儀EMIA-820V
    HORIBA堀場可調(diào)單色光源Tunable PowerArc
    HORIBA堀場探測器IGA array
    HORIBA 堀場探測器
    HORIBA堀場探測器Synapse CCD
    HORIBA堀場在線橢偏儀 In-situ series
    HORIBA 堀場智能型多功能橢偏儀Smart SE
    HORIBA 堀場研究級全自動橢偏儀UVISEL 2
    HORIBA 堀場表面等離子體共振成像儀OpenPlex
    HORIBA堀場一鍵式全自動快速橢偏儀


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