電化學(xué)工作站 型號：HA-DHZ-III
一、簡介
本產(chǎn)
電化學(xué)工作站 型號：HA-DHZ-III
一、簡介
本產(chǎn)品系“九·五”國家重點(diǎn)科技攻關(guān)項(xiàng)目(專題合同號：96-A23-03-01；技術(shù)鑒定證書編號：中科院成鑒字[1998]第070號)成果延伸設(shè)計(jì)的高科技產(chǎn)品。系統(tǒng)可直接用于超微電極上的穩(wěn)態(tài)電流測量，應(yīng)用于電分析基礎(chǔ)教學(xué)科研、電池材料研究、生物化學(xué)(傳感器)、有機(jī)電合成基礎(chǔ)及冶金、制藥、環(huán)境分析等領(lǐng)域的研究測試，基本可滿足所有電化學(xué)教學(xué)和科研領(lǐng)域的應(yīng)用。
二、綜合性能特點(diǎn)
* 32位Windows中文界面：操作簡單直觀。可實(shí)時(shí)觀察窗口、圖形數(shù)據(jù)一體化運(yùn)用。對用戶的
操作及數(shù)據(jù)的有效性、完整性進(jìn)行充分的分析、檢查、提示或警告。
* 數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)顯示、打印：可以按照實(shí)驗(yàn)報(bào)告和研究記錄的格式存儲實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和結(jié)果。
* 強(qiáng)大的數(shù)據(jù)及圖形處理：可直接在儀器內(nèi)存儲80000個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)，在系統(tǒng)微機(jī)上可根據(jù)用戶要求
設(shè)定存儲更大的數(shù)據(jù)和文件。并能以多種圖形方式顯示測量結(jié)果。
*無縫升級或擴(kuò)充系統(tǒng)：本系統(tǒng)儀器可根據(jù)用戶不同階段的需要進(jìn)行軟、硬件無縫升級，并可擴(kuò)充
自動電位滴定系統(tǒng)、自動電流滴定系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)圓盤測定系統(tǒng)。
*.完善的電化學(xué)教學(xué)系統(tǒng)：在線的電化學(xué)教學(xué)輔助系統(tǒng)。匯集常見的電化學(xué)、電分析化學(xué)知識與方
法，以圖形、公式、文字有機(jī)結(jié)合輔助電化學(xué)和電分析化學(xué)教學(xué)，即可以作為本科生、研究生教
學(xué)輔助，也可以作為電化學(xué)研究輔助參考資料。
*完善的外圍擴(kuò)充系統(tǒng)：本系統(tǒng)儀器可根據(jù)用戶不同階段的需要進(jìn)行外圍電化學(xué)配件的擴(kuò)充，如自
動電位滴定系統(tǒng)、自動電流滴定系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)圓盤測定系統(tǒng)、流動電化學(xué)系統(tǒng)、電化學(xué)發(fā)光系統(tǒng)、
庫侖檢測系統(tǒng)等。
三、可提供的電化學(xué)方法
●HA-DHZ-Ⅰ通用電化學(xué)系統(tǒng)：
主要用于廣泛的電化學(xué)的實(shí)驗(yàn)與研究：單電位及多電位階躍計(jì)時(shí)電流法、計(jì)時(shí)電量法、電流—時(shí)間曲線、開路電位—時(shí)間曲線、線性掃描(極譜)法、循環(huán)伏安法、線性掃描溶出伏安法等系統(tǒng)軟件并提供相關(guān)模擬系統(tǒng)。可無縫向DHZ-Ⅱ、DHZ-Ⅲ、DHZ-IV型升級。
●HA-DHZ-Ⅱ微電流電化學(xué)系統(tǒng)：
微電流技術(shù)、傳感器測量技術(shù)、脈沖技術(shù)、方波技術(shù)、交流技術(shù)、電化學(xué)檢測方法、電池充放電測試及交流阻抗測量、電極過程動力學(xué)、電極制備表征、電解池設(shè)計(jì)、儀器及系統(tǒng)集成、高級數(shù)據(jù)分析、阻抗研究方法和相關(guān)的模擬系統(tǒng)等近40種方法。
●HA-DHZ-Ⅲ大電流電化學(xué)系統(tǒng)：
大恒電流恒電位技術(shù)、電解技術(shù)、電池充放電測試、脈沖技術(shù)、方波技術(shù)、交流技術(shù)、電化學(xué)檢測方法、及交流阻抗測量、電極過程動力學(xué)、電極制備表征、電解池設(shè)計(jì)、儀器及系統(tǒng)集成、高級數(shù)據(jù)分析、金屬腐蝕的研究方法、金屬腐蝕的研究方法固液體界面理論、電極過程動力學(xué)、塔菲爾曲線、三電極體系及電化學(xué)分析在生物、材料、能源、環(huán)保等領(lǐng)域的應(yīng)用實(shí)例等系列設(shè)計(jì)、復(fù)雜實(shí)驗(yàn)50余種方法。
●HA-DHZ-IV交流阻抗電化學(xué)系統(tǒng)：
阻抗研究方法(1mHz-500KHz)、金屬腐蝕的研究方法/固液體界面理論、電極過程動力學(xué)、塔菲爾曲線、三電極體系及電化學(xué)分析在生物、材料、能源、環(huán)保等領(lǐng)域的應(yīng)用實(shí)例等系列設(shè)計(jì)、復(fù)雜實(shí)驗(yàn)50余種方法。
四、主要技術(shù)指標(biāo)
型號 參數(shù) | HA-DHZ-Ⅰ(通用) | HA-DHZ-Ⅱ(微電流) | HA-DHZ-Ⅲ(大電流) | HA-DHZ-IV(阻抗) |
恒電位范圍 | ±5V、±12V | ±5V、±12V | ±5V、±12V | ±5V、±12V |
恒電流范圍 | ±50mA | ±50mA | ±1A | ±50mA |
槽壓 | ±15V | ±15V | ±32V | ±32V |
掃描速度 | 0.01mV～5000mV/S | 0.01mV～5000mV/S | 0.1mV～1000mV/S | 0.01mV～5000mV/S |
掃描范圍 | ±5V | ±5V | ±5V | ±5V |
電極輸入阻抗 | ≥1×1012Ω | ≥1×1013Ω | ≥1×1012Ω | ≥1×1013Ω |
電位分辨率 | 0.01mV | 0.01mV | 0.1mV | 0.01mV |
電流靈敏度 | ≤1pA | ≤0.1pA | ≤0.1uA | ≤0.1pA |
電流測量下限 | 100pA | 10pA | 100uA | 100pA |
電流測量量程 | ±100nA～±250mA | ±10pA～±10mA | ±100uA～±2A | ±10nA～±250mA |
采樣間隔 | 0.0001～60000Sec | 0.0001～60000Sec | 0.0001～60000Sec | 0.0001～60000Sec |
交流幅度 | 0.01～0.4V | 0.001～0.4V | 0.1～0.4V | 0.001～0.4V |
時(shí)間分辨率 | 0.1mS | 0.1mS | 10mS | 0.01mS |
方波頻率 | 0.001～100KHz | 0.001～100KHz | 0.01～10KHz | 0.001～100KHz |
正弦流頻率 | 0.01mHz～100KHz | 0.01mHz～100KHz | 1mHz～10KHz | 0.01mHz～1000KHz |
脈沖間隔 | 0.0001～60000Sec | 0.001～60000Sec | 0.1～60000Sec | 0.0001～60000Sec |
阻抗測量 | -- | -- | -- | 1mHz-500KHz |
電位小增量 | 0.01mV | 0.01mV | 0.01mV | 0.01mV |
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