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一、應用領域：
該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜，多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等)的研發和小批生產。
二、性能參數
1. Φ1000x700水冷真空腔體，側開門，樣品架公自轉;
2. 頂部和側面布置有濺射靶位8個;
3. 6″直流靶6只，每只各配3KW直流電源1套;
4. 6″射頻靶2只，各配1.5KW射頻電源1套;
5. 系統配考夫曼離子源用于工件清洗;
6. 腔室可加熱，加熱溫度300℃。
7. 極限真空：5x10-4Pa。
| 產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
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