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    • 鄭科探  小型高溫真空蒸鍍儀
    • 鄭科探  小型高溫真空蒸鍍儀

    KT--Z1650CVD 鄭科探 小型高溫真空蒸鍍儀

    參考價
    38600.00
    具體成交價以合同協議為準
    規格
    • 38600.00元66 臺可售
    • 型號KT--Z1650CVD
    • 品牌其他品牌
    • 所在地鄭州市
    • 更新時間2024-11-04
    • 廠商性質生產廠家
    • 所在地區鄭州市
    • 實名認證已認證
    • 產品數量198
    • 人氣值1871
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    目前公司已研發生產科研儀器十多個系列,上百款產品,包括實驗電爐、高真空機組、智能供氣儀、二維材料制備CVD設備、等離子清洗機、小型磁控濺射儀、小型蒸鍍儀、石英管真空封口機、真空探針臺、燃料電池評價裝置等。主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源領域,物理特性及化學特性的研究,廣泛應用于各大院校及材料研究所。

    公司與國內高校、科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發、我們秉承公司的發展理念,依靠長期實踐的技術經驗和嚴謹的研發能力、科學合理的生產工藝、精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心,期待與您的合作!

     

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    產地國產 加工定制
    鄭科探 小型高溫真空蒸鍍儀 KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓,電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
    鄭科探 小型高溫真空蒸鍍儀 產品詳情

    鄭科探  小型高溫真空蒸鍍儀:

    是一款小型多功能鍍膜儀,額定1800度高溫,自動樣品擋板,靶臺旋轉,觸摸屏多段控制,工藝儲存等功能。

    空蒸發鍍膜包括以下基本過程:

    1)加熱蒸發過程:包括由凝聚相轉變為氣相的過程,每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。

    2)氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸,即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。

    3)蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發,凝聚,成核,核生長,形成連續的膜。由于基板溫度遠

    低于基板溫度遠低于蒸發源溫度,因此,氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。

     

    編輯

    以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

     

    原樣品沒有鍍膜

     

    115A 100秒 機械泵

     

    115A 100秒 分子泵抽12分鐘

     

    115A 120秒 分子泵抽20分鐘

    真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

    鄭科探  小型高溫真空蒸鍍儀 技術參數

    控制方式

    7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

    加熱方式

    數字式功率調整器

    鍍膜功能

    0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    功率

    ≤1200W

    輸出電壓電流

    電壓≤12V 電流≤120A

    真空度

    機械泵 ≤5Pa5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa

    擋板類型

    電控

    真空腔室

    石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

    樣品臺

    可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)

    樣品臺轉速

    8/分鐘

    樣品蒸發源調節距離

    70-140mm

    蒸發溫度調節

    ≤1800℃

    支持蒸發坩堝類型

    鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩

    預留真空接口

    KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

    可選配擴展

    機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa

    數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

    分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa


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