氧含量在線監(jiān)測系統(tǒng)主要是分三部分，氧分析儀（防爆與非防爆）可配接預(yù)處理、防爆電化學(xué)氧氣分析儀、氧氣分析系統(tǒng)。常見于工業(yè)過程分析與控制的氧氣濃度分析儀有多種原理，針對不同的工藝如純度氧、微量氧所選擇的分析原理也是不同的。氧氣濃度分析儀關(guān)乎企業(yè)生產(chǎn)運(yùn)行與安全。氧含量在線監(jiān)測系統(tǒng)可用于熱電、冶金、供暖、建材、電子、電站、工業(yè)鍋爐及各類燃燒系統(tǒng)排煙中氧含量的自動分析。
氧含量在線分析系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)和說明：
技術(shù)參數(shù)：（焦?fàn)t煤氣電捕焦器現(xiàn)場采樣分析點(diǎn)工況）
取樣點(diǎn)位置：焦?fàn)t煤氣電捕焦器出口
分析參數(shù)： O2（可選擇分析原理：電化學(xué)，磁氧或者激光分析儀，其價(jià)格有較大差異）
測量范圍： O2：0-2%（當(dāng)達(dá)到1%O2輸出報(bào)警節(jié)點(diǎn)信號，自由設(shè)定）
被測煤氣溫度：40～60℃
含塵量：微量
含水量：中等
含焦油量：少量
其他腐蝕成份（S O2）：少量
結(jié)晶物（萘）：少量
管道壓力：微正壓
氧含量在線分析系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案及配置說明：
1、配置原則：本分析裝置中的重要關(guān)鍵部件（如：抽氣泵、傳感器、PLC等）采用，其它能夠長期保證使用的關(guān)鍵、主要和一般性部件則采用國內(nèi)合資企業(yè)和本廠生產(chǎn)制造的，盡量減少后期維護(hù)的運(yùn)行成本；
2、本分析裝置主要技術(shù)特點(diǎn)如下：本裝置是按“交鑰匙式”工程設(shè)計(jì)。裝置除取樣器外和過濾器組件，樣氣的預(yù)處理單元、供電單元和分析校對單元均置于分析柜內(nèi)，出廠前已調(diào)試完畢。現(xiàn)場只需用戶安裝探頭、輔設(shè)取樣線、電源和分析柜就位即可。到時(shí)供方來技術(shù)人員到現(xiàn)場按裝和調(diào)試；
3、分析柜按國家標(biāo)準(zhǔn)制作，開有觀察大窗方便操作者巡視和維護(hù)；
4、系統(tǒng)全干法流程，對分析組分不會有影響取樣器、取樣管，各類管接頭（與樣氣接觸部分）、抽氣泵均為防腐設(shè)計(jì)。泵等均采用防腐不銹鋼、聚四氟乙烯材料或防腐處理，提高了系統(tǒng)防腐性。保證了系統(tǒng)使用壽命；
5、采用自動除濕器，具有使用壽命長，維護(hù)工作量小，除濕效果穩(wěn)定等特點(diǎn)，樣氣中的殘余水汽將得到清除，從而達(dá)到干燥樣氣的目的，避免了水汽對儀器的干擾。
氧含量在線分析系統(tǒng)、分析柜組件及裝置技術(shù)參數(shù)：由前處理單元、供電單元、分析校對單元組成；
1、前處理單元包括：過濾器組件（除奈、焦油）、氣液分離器、除濕器、抽氣泵（進(jìn)口部件）、精除硫管、流量調(diào)節(jié)器、等。通過粗、細(xì)過濾和分離、吸收粉塵、焦油、奈、酸霧、冷卻除濕水份的綜合凈化處理，提供分析儀器超凈的分析氣源；
2、供電及控制單元包括：電源控制盤（包括高性能空氣開關(guān)、接線端子）、輸出故障報(bào)警接點(diǎn)信號；具有數(shù)據(jù)采集、自動處理氧氣成份含量越限報(bào)警功能。控制中樞PLC、二位三通電磁閥等；
3、分析單元包括：氧量分析儀、流量計(jì)、流路切換閥、標(biāo)準(zhǔn)樣氣等；
4、越限報(bào)警功能：分析儀對凈化后的煤氣樣品進(jìn)行連續(xù)在線分析，輸出4-20mA信號和無源觸電信號。若氧濃度越，裝置立即輸出報(bào)警接點(diǎn)信號（無源接點(diǎn)，容量1A），確保電捕焦器設(shè)備安全運(yùn)行。
5、測量范圍及分析精度：
測量對象及量程： O2 0-2%；
精 度：≤±2%F.S ；
線性誤差: ≤±2%F.S；
裝置系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間：T90＜15S；
6、信號輸出：現(xiàn)場所大屏液晶數(shù)字顯示O2含量并以 4—20mA成份信號隔離輸出給上位機(jī)或DCS。超限報(bào)警、聯(lián)鎖、故障報(bào)警信號輸出及容量：氧濃度越限報(bào)警值在儀表量程范圍內(nèi)分別可設(shè)定（出廠時(shí)設(shè)定濃度報(bào)警值：0.80%,O2）報(bào)警信號輸出無源接點(diǎn)，容量：220VAC，1A；
7、裝置預(yù)處理功能不銹鋼取樣探頭、除塵、除硫、除萘、除焦油、除酸霧、除水份、穩(wěn)壓、穩(wěn)流、快速放散、粉塵凈化精度≤0.1u；
8、裝置維護(hù)周期：≥30天。
