GalvanoTest 庫(kù)倫法測(cè)厚儀產(chǎn)品信息
GalvanoTest 庫(kù)倫法測(cè)厚儀產(chǎn)品信息
測(cè)量原理：
基于法拉第定律的原理，GalvanoTest執(zhí)行樣品的限定區(qū)域的電解溶解。 測(cè)量單元填充有特別適合于所選擇的涂層/基底組合的電解質(zhì)。 將測(cè)量池放置在測(cè)試樣品上。 插入電池和測(cè)試樣品之間的墊圈防止溶液流出，同時(shí)地確定待去電鍍的區(qū)域，例如。 1 mm2。 設(shè)備現(xiàn)在可以使用，可以插入電子測(cè)量?jī)x。 通過(guò)電解質(zhì)的電流使用電化學(xué)反應(yīng)溶解涂層的預(yù)定區(qū)域。 一旦蝕刻完成，電壓的特性變化自動(dòng)停止除鍍過(guò)程，并且涂層厚度以微米或密耳顯示在數(shù)字顯示器
上。
德國(guó)EPK （Elektrophysik）公司GalvanoTest 2000庫(kù)倫測(cè)厚儀利用庫(kù)侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層厚度。
可以測(cè)量70種以上鍍層/基體組合
可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層
可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線、線狀零件
預(yù)置9種金屬的測(cè)量參數(shù)：Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘。
用戶(hù)可另設(shè)置1種金屬的測(cè)量參數(shù)
EPK GalvanoTest 庫(kù)倫法測(cè)厚儀，通用涂層測(cè)厚儀：
•幾乎測(cè)量任何電鍍涂層/基底組合
•適用于單層和多層涂層
•使用庫(kù)侖法原理，符合DIN 50 955和ISO 2177的去鍍方法也適用于0.05微米的極薄涂層
庫(kù)侖或陽(yáng)極去鍍技術(shù)用于測(cè)量幾乎所有基材如鋼，有色金屬或絕緣材料基材上的電鍍涂層的厚度。 典型應(yīng)用包括：鋼上鎳，鋼上鋅，銅錫，銀銅或環(huán)氧樹(shù)脂。
該技術(shù)簡(jiǎn)單地涉及去除涂層材料的小的，幾乎不可見(jiàn)的區(qū)域。 襯底不受影響。 庫(kù)侖法確保可靠和的結(jié)果。 EPK GalvanoTest 庫(kù)倫法測(cè)厚儀設(shè)計(jì)為易用，GalvanoTest不需要特定的操作員技能，只有少的培訓(xùn)才能進(jìn)行實(shí)際測(cè)量。 庫(kù)侖法原理是測(cè)量多層系統(tǒng)的各個(gè)層的低成本方法，例如鉻和鎳加銅在鋼上一個(gè)接一個(gè)地測(cè)量。 連接到MiniPrint數(shù)據(jù)打印機(jī)，GalvanoTest提供測(cè)量結(jié)果和統(tǒng)計(jì)的完整文檔。 對(duì)于特定的測(cè)量分析或以后的參考，也可以打印去鍍過(guò)程中的特征電壓曲線
•可測(cè)實(shí)際應(yīng)用的所有鍍層
•利用庫(kù)侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層
•符合標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177
電解測(cè)厚法：不屬于無(wú)損檢測(cè)，需要破壞涂鍍層，一般精度也不高。測(cè)量起來(lái)比較其他幾種麻煩。
篤摯儀器（上海）有限公司專(zhuān)業(yè)代理德國(guó)EPK Elektrophysik磁感應(yīng)測(cè)厚儀、渦流測(cè)厚儀、超聲波測(cè)厚儀、霍爾效應(yīng)測(cè)厚儀、庫(kù)倫法測(cè)厚儀、麥考特測(cè)厚儀等等，篤摯技術(shù)服務(wù)部與匯聚資源的合作品牌一起，以共同對(duì)計(jì)量及試驗(yàn)技術(shù)的專(zhuān)注和專(zhuān)業(yè)，致力于在質(zhì)量檢測(cè)領(lǐng)域，為客戶(hù)提供區(qū)域化和廣泛的服務(wù)，確保操作和維護(hù)儀器的總體有效性和成本佳化，增強(qiáng)您測(cè)量和檢測(cè)的可靠性和性能。歡迎留言或！
