KF200系列激光氣體分析儀是基于半導體激光吸收光譜法（DLAS）開發的，具有集成設計和高集成度，用于工業在線分析、環境在線監測。
KF200系列激光氣體分析儀具備多種安裝類型，包括原位探頭型、旁路安裝型、多通道和圓盤安裝型等，可以分析O2、CO、NH3、CO2、CH4、H2O、HC、HF等氣體類型。目標氣體的濃度分析包括宏觀分析和微觀分析。
技術原理：
使用電流和溫度掃描被測氣體的特定吸收峰（無背景氣體吸收）來調制激光（可調）波長，獲得氣體吸收的二次諧波。根據二次諧波信息和氣體的擴散，可以計算出氣體的濃度。
技術特性：
采用TDLAS技術進行在線氣體分析；
雙重防爆探頭設計，可實現防爆吹掃正壓實時監控，無需額外的數據處理單元，結構簡單緊湊，可靠性高；
使用大功率激光器，無光纖耦合，適合苛刻的工作條件（如灰塵過多）；
技術規格：
技術參數 | 線性誤差 | ≤±1％F.S. |
跨度漂移 | ≤±1％F.S./6個月 | |
重復性 | ≤1％ | |
校準周期 | ≤1次/ 6個月 | |
防爆等級 | Ex d IIC T6 | |
保護等級 | IP66 | |
響應時間 | 預熱時間 | ≤15分鐘 |
響應時間（T90） | ≤1秒 | |
接口信號 | 模擬輸出 | 2路4-20 mA信號輸入（隔離，負載750Ω） |
繼電器輸出 | 3線繼電器（24 V，1A） | |
數字通訊 | RS485 / RS232 / GPRS | |
模擬輸入 | 2路4-20 mA輸入（溫度-壓力補償） | |
激光安全標準 | GB7247.1-2001（idt IEC 60825-1：1993） | |
運行條件 | 儲存溫度 | -30℃?+ 60℃ |
環境溫度 | -40℃?+ 80℃ | |
EMC | IEC 6100-4-2，IEC 6100-4-3，IEC 6100-4-4，IEC 6100-4-5，IEC 6100-4-11 | |
氣體噴射 | 0.3-0.8 MPa工業氮氣進口和凈化儀器氣體等 | |
功耗 | ＜20瓦 | |
電源 | 24 V DC（18-36 V DC），220 V AC | |
氣體檢測極限：
檢測氣體類型 | 檢出限 | 檢測范圍 |
氧氣 | 0.01％Vol | （0-1）％Vol，（0-100）％Vol |
二氧化碳 | 10 ppm | （0-1000）ppm，（0-100）％Vol |
硫化氫 | 20 ppm | （0-2000）ppm，（0-100）％Vol |
0.1 ppm | （0-50）ppm，（0-100）％Vol | |
氨氣 | 0.1 ppm | （0-10）ppm，（0-100）％Vol |
C2H2 | 0.1ppm | （0-10）ppm，（0-100）％Vol |
一氧化碳 | 10 ppm | （0-1000）ppm，（0-100）％Vol |
水氣 | 0.3 ppm | （0-50）ppm，（0-100）％Vol |
氟化氫 | 0.02 ppm | （0-5）ppm，（0-10000）ppm |
HCN | 0.3 ppm | （0-30）ppm，（0-1）％Vol |
CH4 | 0.4 ppm | （0-40）ppm，（0-100）％Vol |
C2H4 | 0.6 ppm | （0-60）ppm，（0-100）％Vol |
注意：
1）測試條件包括1米光程，1 bar氣壓和300 K氣體溫度。
2）增加光路后檢測極限將成比例地降低。
