高通量平行合成儀ZWY-113H4F
該設備廣泛應用于化學反應的快速篩選、加氫催化劑的篩選、合成反應路線的探索、反應優(yōu)化的研究、樣品的穩(wěn)定性研究、混合物制備和溶解度研究等。
這是專為精細化工等行業(yè)研發(fā)設計的組合化學和多產品合成設備。該產品按反應板溫度區(qū)域數量不同分為單區(qū)反應和多區(qū)反應；按多區(qū)反應板功能不同可分為加熱型、加熱/冷卻型、回流型；按試管容量不同及試管的裝載數量不同又可分成多個品種規(guī)格。
1.一個反應模塊或一個多溫度區(qū)反應模塊
2.一個數字溫度控制器
3.一個測量反應模塊溫度的熱電偶。
4.一個臺式振蕩器
多溫度區(qū)反應模式
1.多溫度區(qū)反應模塊各帶獨立的循環(huán)通道、獨立的溫度控制單元
2.多溫度區(qū)反應模塊的各個溫度區(qū)可使用不同規(guī)格的瓶子，可進行不同溫度和不同規(guī)格反應瓶的反應
3.反應瓶的數量決定于反應瓶的大小和模塊的樣式
4.在不同反應中可選用不同體積的反應塊
5.可穩(wěn)定、均一、準確地同時控制多個反應的速度
6.反應區(qū)模塊提供的加熱裝置，可適用于可移動內置模塊或滴定板。
主要技術參數：
| 產品型號 | ZWY-113H4F | ZWY-113H6F |
| 產品名稱 | 高通量平行合成儀 | 高通量平行合成儀 |
| 名稱型號 | ZWY-113H4F高通量平行合成儀 | ZWY-113H6F高通量平行合成儀 |
| 溫控范圍(℃) | 環(huán)境溫度～200℃ | 環(huán)境溫度～200℃ |
| 溫控精度(℃) | ±0.1 | ±0.1 |
| 定時范圍(h) | 0～500 | 0～500 |
| 旋轉頻率(r/min) | 50～300 | 50～300 |
| 溫度區(qū)域(個) | 4 | 6 |
| 水循環(huán)通道(個) | 1 | 1 |
| 消耗功率(W) | 1300 | 2560 |
| 電源(V/Hz) | 220/50 | 220/50 |
| 外型尺寸(mm) | 472*525*330 | 530*525*330 |
| 反應板尺寸(mm) | 170*152*4(塊) | 142*152*6(塊) |
| 裝載(直徑*孔數) | Φ28*9或Φ17*16或Φ15*16 | Φ28*6或Φ17*12或Φ15*12 |
