芯片超純水設備
芯片超純水設備產品簡介：
EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。
芯片超純水設備
芯片超純水設備產品簡介：
EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。電流使水電解產生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進行連續的，工作是連續的。
芯片超純水設備產品特點：
EDI可代替傳統的混合離子交換技術(MB-DI)生產穩定的去離子水。EDI技術與混合離子交換技術相比有以下優點:
1、離子交換樹脂的用量少，約相當于傳統離子交換法樹脂用量的5%。
2、離子交換樹脂不需酸，節約大量酸、堿和清洗用水，降低勞動強度。
3、無廢酸、廢堿液排放，是清潔的生產技術。
4、過程實現自動控制，產水水質穩定，與RO等水處理技術相結合，能形成完善的純水、超純水生產線。
5、產水水質高，可達到國家電子級水I級標準，電阻率為18MΩ·cm。
6、純水生產過程連續進行，無需像離子交換床那樣一套在用一套地重復設置
適用范圍：
EDI超純水技術具有技術、操作簡便，是清潔生產技術，在微電子工業、電力工業、醫藥工業、化工工業和實驗室等領域得到日趨廣泛的應用。
新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了加嚴格的要求。
