1、 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2、 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵
防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。
產品用途：
此款三溫區CVD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。
產品詳情：
| 名稱 | 高溫三溫區CVD設備 | |
| 型號 | KJ-OTF-1700-F5 | |
| 加熱系統 | 顯示 | LED |
| 溫度 | 1700℃ | |
| 工作溫度 | ≤1600℃ | |
| 升溫速率 | 0~15℃/min | |
| 溫區 | 3 | |
| 溫區長度 | 220mm | |
| 加熱元件 | MoSi2 棒 | |
| 熱電偶 | B型 | |
| 控溫精度 | ±1℃ | |
| 管尺寸 | 80 x 1400mm | |
| 材質：氧化鋁 | ||
| 溫度控制 | PID自動控制 | |
| 溫控方式 | 30段可編程 | |
| 真空計 | 復合真空計 | |
| 真空法蘭 | 帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭 | |
| 電壓/功率 | 220V, 50 Hz, 10KW | |
| 真空泵系統 | 真空泵組 （旋片泵+擴散泵） 包括 KF25、KF50 適配器、真空泵組波紋管和帶輪移動柜。 | 冷態極限真空6.67*10-3Pa。 |
| 質量流量計（5氣路） | 流量范圍 | (20, 30, 50, 100, 200, 300, 500) SCCM |
| 準確性 | ±1.5 % F.S. | |
| 重復精度 | ±1.5 % F.S. | |
| 響應時間 | ≦10sec | |
| 工作壓差范圍 | 0.1~0.5MPa | |
| 耐壓性 | 3MPa | |
| 溫度系數 | 零: ≤±0.2% F.S./℃; 跨度: ≤±0.2% F.S./℃ | |
| 工作環境溫度 | 5~45℃ | |
| 輸入信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
| 輸出信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
| 電插頭形式 | DB15針（母） | |
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