◆ 分辨率高，成像質量更好
◆ 翻開式發叉結構鎢絲陰極，更換燈絲方便
◆ 純中文操作界面，具有一鍵成像功能
◆ 自動調整功能：電子槍加熱、偏壓、對中、聚焦、亮度、對比度、消像散、像散記憶等
◆ 自動校正、自動故障檢測
◆ 低維護、維修成本
項目 | EM6900 | EM6900Z | |
分辨率 | 3nm@30KV(SE) 6nm@30KV(BSE) | ||
放大倍數 | 底片放大：6X～300000X 屏幕放大：12X～600000X | ||
電子槍類型 | 翻開式發叉結構鎢絲陰極 | ||
加速電壓 | 0 ~ 30KV | ||
透鏡系統 | 三級電磁透鏡（錐形物鏡） | ||
物鏡光闌 | 三個光闌可在真空外選擇調節 | ||
樣品臺 | 手動 | X/Y軸自動 | |
行程 | X | 0 ~ 80mm | |
Y | 0 ~ 60mm | ||
Z | 0 ~ 50mm | ||
R | 360° | ||
T | -5° ~ 90° | ||
樣品直徑 | 175mm | ||
探測器 | CCD 背散射電子探測器，X-ray能譜儀 EBL 高低溫臺納米操作臺拉伸臺 | ||
真空系統 | 分子泵 | ||
多樣化的電鏡應用定制方案
1. 高低溫拉伸臺和微納機械手
 | 掃描電鏡結合原位拉伸試驗臺是一種能夠動態觀測和分析材料微觀變形形貌和斷裂機制的手段； 利用掃描電鏡的大景深、高空間分辨和分析功能，在微觀層面上對材料的力學性能進行動態研究； 可以為多種材料做拉伸測試，如金屬材料、高分子材料、陶瓷材料等； 拉伸載荷：5000 N，可以實現-150 ℃~600 ℃溫度下拉伸測試。 |
掃描電鏡結合納米機械手，集合納米操作以及力學-電學性能同步測試功能于一體； 可以應用于復雜微納米材料的原位機械力學性能測試和結構觀察、微納米多自由度操作和精密組裝、微納米機器人及微納傳感器的力/電學分析等； 力學測量范圍從0.5 nN到200 mN，位移檢測范圍0.05 nm到21 mm。 |  |
2. 電子束曝光(EBL)系統
以掃描電子顯微鏡為基礎，配備激光精密工件臺和圖形發生器的新型納米曝光系統，跟商品化電子束曝光機相比價格低廉；
無需改動電子顯微鏡，保留顯微鏡的全部功能，用來制作納米級線寬的圖像，操作靈活，成本較低；
DY-2000A型納米通用圖形發生器是用于電子束曝光的關鍵設備；
該系統特別適用于微電子器件、量子器件、光電子器件、聲表面波器件、微電子系統的研究和開發。
3. 掃描電鏡與激光聯用系統
根據客戶定制需求，在電子槍室和樣品倉側面開口，用于激光引入；
電子槍室引入激光，照射到陰極上可產生光致發射電子束，用于表面成像、樣品處理等；
樣品倉引入激光到樣品表面，用于樣品激發或樣品光致改性研究。
4. 掃描電鏡與鍍膜機聯用系統
掃描電鏡與鍍膜系統聯用，真空環境內完成樣品傳運以及表面狀態、形貌及組成成分分析；
在線分析高活性材料表面離子濺射清洗效果及表面腐蝕的微觀過程；
本系統主要功能模塊包括：場發射掃描電子顯微系統、能譜儀、進樣系統，同時還可以配備多功能樣品臺。
5. 掃描電鏡與掃描隧道顯微鏡(STM)/原子力顯微鏡(AFM)聯用系統
利用掃描電鏡放大倍數連續可調、長工作距離、大景深、易于觀測粗糙樣品的特點；
與STM/AFM結合，解決STM/AFM難于定位的難題；
首先使用掃描電鏡進行選區，然后控制探針到選定的微觀區域進行細致成像；
實現從宏觀到微觀，從mm 范圍到nm 范圍，從粗造表面到光滑表面的直接觀察；
6. 電子束焊機圖像系統
巧妙地利用焊機已有的一些部件，基于背散射電子成像，實現圖像功能；
數字化的圖像可以定位焊縫的位置，為跟蹤焊接軌跡，調整焊接參數提供了條件，
大大改善焊接過程和焊縫質量；
這套圖像系統既可以用于配套生產新型的電子束焊機，也可以用于升級改造舊的電子束焊機。
軟件功能介紹
KYKY-SEM電鏡操作軟件純中文操作界面，模塊化布局。在滿足基本電鏡的操作功能外還具有一鍵看像，多點尺寸測量，電鏡圖片文字標注，真空圖顯示，CCD窗口顯示等強大的輔助功能，滿足不同用戶的個性化需求。
圖像處理軟件
場槍圖片示例
行業應用
電池材料
復合、高分子材料
動植物、微生物
粉末冶金材料
礦物
金屬行業
纖維
建筑材料
化工材料
陶瓷材料
膜行業
客戶定制：樣品預處理系統、樣品傳輸系統、特型樣品室、電子束曝光系統（EBL）、分子束外延生長系統（MBE）、MICRO-CT、原位拉伸臺、高低溫樣品臺、微納操作、三束加工設備、拉曼聯用、薄膜在線顯微分析等技術模塊及綜合功能測試平臺。
