光束線同步PLD系統,新型脈沖激光沉積系統適合原位同步衍射/散射研究,精確了解影響薄膜界面形成和生長的機制。同步輻射X射線衍射和反射是研究薄膜結構和界面的一種重要方法。然而，至關重要的是，這些樣品不能暴露在大氣中，因為即使是亞單層污染也可能破壞表面效應或改變薄膜。
SURFACE原位光束線同步PLD系統是一種功能齊全的脈沖激光沉積系統，可用于同步加速器光束線。該設計的緊湊占地面積使系統能夠安裝在測角儀上。
光束線同步PLD系統保持了標準實驗室系統的多功能性，如用于多個目標的目標轉盤、高壓RHEED系統、用于樣品溫度高達1200°C的激光加熱系統以及帶有真空樣品存儲的負載鎖定系統。具有超精密旋轉（圍繞垂直于樣品表面的軸±135°）、平移（x/y方向±6 mm，z方向±3 mm）和傾斜（±5°）運動的樣品操縱器可以在不同的幾何結構中進行衍射研究。操縱器的角度分辨率優于0.001°。緊湊的設置為探測器在系統周圍的水平和垂直圓上的移動留出了足夠的空間，光束出射窗口覆蓋水平面上的55°（對于2θ=110°）和垂直面上的70°（對于掠入射幾何中的2θ=70°）。
光束線同步PLD系統特點
全功能PLD系統優化用于同步加速器束線
緊湊的設計和集成的傳輸機構允許在幾分鐘內安裝到測角儀上
精密樣品操縱器可實現衍射研究的高分辨率基板旋轉和傾斜
襯底溫度高達1200°C的激光加熱
用于八個目標的目標操縱器，窄設計可實現基板的寬角度可達性
可變目標基板距離：35 mm至100 mm
分體式沉積室設計，易于接近所有部件進行維護和校準
鈹X射線窗在水平面上覆蓋55°（對于2θ=110°），在垂直面上覆蓋70°（對于掠入射幾何中的2θ=70°）
帶樣品儲存的集成負載鎖定室
差動泵RHEED系統（腔室壓力高達0.1毫巴），帶電動噴槍調節
用于PLD的各種波長（紫外、可見光、紅外）的YAG激光器
兩種不同工藝氣體的氣體供應，通過流量控制器和電動泄漏閥進行PID壓力控制
SURFACE原位光束線同步PLD系統是一種功能齊全的脈沖激光沉積系統，可用于同步加速器光束線。該設計的緊湊占地面積使系統能夠安裝在測角儀上。
光束線同步PLD系統保持了標準實驗室系統的多功能性，如用于多個目標的目標轉盤、高壓RHEED系統、用于樣品溫度高達1200°C的激光加熱系統以及帶有真空樣品存儲的負載鎖定系統。具有超精密旋轉（圍繞垂直于樣品表面的軸±135°）、平移（x/y方向±6 mm，z方向±3 mm）和傾斜（±5°）運動的樣品操縱器可以在不同的幾何結構中進行衍射研究。操縱器的角度分辨率優于0.001°。緊湊的設置為探測器在系統周圍的水平和垂直圓上的移動留出了足夠的空間，光束出射窗口覆蓋水平面上的55°（對于2θ=110°）和垂直面上的70°（對于掠入射幾何中的2θ=70°）。
光束線同步PLD系統特點
全功能PLD系統優化用于同步加速器束線
緊湊的設計和集成的傳輸機構允許在幾分鐘內安裝到測角儀上
精密樣品操縱器可實現衍射研究的高分辨率基板旋轉和傾斜
襯底溫度高達1200°C的激光加熱
用于八個目標的目標操縱器，窄設計可實現基板的寬角度可達性
可變目標基板距離：35 mm至100 mm
分體式沉積室設計，易于接近所有部件進行維護和校準
鈹X射線窗在水平面上覆蓋55°（對于2θ=110°），在垂直面上覆蓋70°（對于掠入射幾何中的2θ=70°）
帶樣品儲存的集成負載鎖定室
差動泵RHEED系統（腔室壓力高達0.1毫巴），帶電動噴槍調節
用于PLD的各種波長（紫外、可見光、紅外）的YAG激光器
兩種不同工藝氣體的氣體供應，通過流量控制器和電動泄漏閥進行PID壓力控制
