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公司介紹主營產品

位于中國上海浦東外高橋保稅區的伯東企業（上海）有限公司創建于1995年12月，, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業員工有400多人。
伯東企業（上海）有限公司真空產品事業部()專業銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管)；檢漏儀，質譜儀，真空系統等等, 維修技術力量雄厚，保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調整工具和德國Pfeiffer專業培訓工程師，多年來致力于真空系統的安裝、調試、維修、拆機、保養等，具有優良的專業技能和服務意識，并獲得原廠*維修資質證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源，HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質*、信譽*的原則，為廣大客戶提供了高品質的產品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001－2000質量體系認證、ISO14001－1996環境體系認證。公司將在今后的發展中秉承以人為本，不斷開拓進取的精神，為滿足客戶的需求努力向專業化、優質化、集團化發展。

為將國外的高科技產品與中國經濟和社會的飛速發展緊密結合，為促進國內.貿易的快速發展,伯東企業(上海)有限公司,以高科技推動現代化，以高質量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業代理公司,代理上公司的半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承改革.創新.求真.發展的基本原則, 精心構建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優質的產品, 同時,提供全伯東集團網絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯手合作,共建一個誠信.發展.共同進步的良好環境.

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產品簡介在線詢價

產地	進口	加工定制	是	適用領域	其他

上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準確控制多個磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國 KRi 離子源為客戶提供更好質量的復合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節省其制程腔體的抽氣時間, 進而節省整體實驗時間. 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池等行業以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東代理磁控共濺鍍設備 Co-Sputter 產品詳情

因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

磁控共濺鍍設備 Co-Sputter

磁控共濺鍍設備 Co-Sputter
磁控共濺鍍是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍, 濺鍍于被鍍物上. 磁控共濺鍍主要用于復合金屬或復合材料, 通過分別優化每一支磁控濺鍍槍 (靶材) 的功率來控制薄膜質量, 其薄膜厚度取決于濺鍍時間.

上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準確控制多個磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國 KRi 離子源為客戶提供更好質量的復合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節省其制程腔體的抽氣時間, 進而節省整體實驗時間. 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池等行業以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東磁控共濺鍍設備配置和優點
客制化基板尺寸, z大直徑可達 12寸晶圓
薄膜均勻度小于 ±3％
磁控濺鍍源 (最多8個源), 具有多種可選的靶材尺寸
具有順序操作或共沉積的多個濺鍍源
射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導電與導電靶材
精準流量控制器（最多4條氣體管線）
基板可加熱到 1000°C
基材到靶材之間距為可調節的
每個濺鍍源和基板均安裝遮板

磁控共濺鍍設備 Co-sputter

濺鍍腔中, 在載臺部分可獨立施打偏壓, 對其基板進行清潔與增加材料的附著性等功能.

安裝美國 KRi 離子源: 上海伯東代理美國 KRi 離子源可用于基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速率, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.

磁控共濺鍍設備 Co-sputter

磁控濺鍍設備基本參數

系統類型	Real 超高真空	超高真空	高真空	緊湊型高真空
極限真空	5X10-10 Torr	5X10-9 Torr	3X10-7 Torr	5X10-7 Torr
腔室密封	全部 CF(烘烤)	一些密封圈(烘烤)	全部密封圈	全部密封圈
電子槍	3-4, 2-3 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-4 英寸	3-4, 2-3 英寸
電源	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF	DC / DC pulse / RF
Load-lock	標準(HV)	標準(HV)	標準(HV)/可選	標準(HV)/可選
基板	4-6 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C或水冷	4-8 英寸加熱至 800°C	4-6 英寸加熱至 800°C
真空泵	低溫泵	低溫泵 / 分子泵	分子泵	分子泵
監控	真空規和Baratron	真空規和Baratron	真空規和Baratron	真空規和Baratron
工藝控制	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥	部分 / 3位 /手動閘閥
氣體	氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮氣, 氧氣(load-lock可選)	氬氣, 氮氣, 氧氣	氬氣, 氮氣, 氧氣
射頻偏壓清潔	300W RF(清潔和蝕刻)	300W RF(清潔和蝕刻)	可選	可選
離子源	100 KRi 離子源	100 KRi 離子源	可選	可選
薄膜	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等	二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等

磁控濺鍍設備Sputter

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應用
寬大的前開式門, 并有兩個窗口和窗口遮版, 用于觀察基材和濺鍍源
具有顯示功能的全量程真空計和用于壓力控制的 Baratron 真空計
腔體的極限真空度約 10-8 Torr

選件
可以與傳送腔, 機械手臂和手套箱整合在一起
結合離子源, 熱蒸發源, 電子束...等等
基板射頻或直流偏壓
膜厚監測儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監控的額外備用端口

應用領域
半導體類, 納米科技
產品質量控制和質量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽能電池
光學研究, 材料研究

若您需要進一步的了解上海伯東磁控共濺鍍設備, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 羅先生

關鍵詞：流量控制器標準真空泵機械手手套箱

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