| 橢偏儀應用 光譜橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構特性的光學測量設備。可測的樣品包括大塊材料、薄膜以及在平面基底上生長或沉積的多層結構。多層固體、液體、與固體相鄰的液體以及與固體接觸的氣相等離子體的特性等都可以用這一技術來探測。由于與樣品非接觸，對樣品沒有破壞并且不需要真空，使得橢偏儀成為一種吸引力的探測設備。 許多材料的特性都可以用橢偏儀來探測。的是用來測量薄膜的厚度。還可以用來探測薄膜或大塊材料的光學常數。同時，還能夠測量其他材料的屬性，包括表面和界面的粗糙度、結晶度、金屬和雜質濃度、光學各向異性以及其他影響材料光學常數的特性。 橢偏儀通常應用于有薄膜存在的地方。其應用包括光學鍍膜和保護膜、聚合物、光刻材料、平面平板顯示、計算機讀寫頭以及半導體集成電路制造的研究開發。另外，在生物、醫藥、化學、電化學及基礎材料研究等方面也有應用。 基本應用：單、多薄膜折射率及膜厚測量，塊才的折射率測量；相位延遲測量 擴展應用：表面粗糙，界面混合、組分比、結晶度、折射率梯度分布、光學各項異性、帶隙研究… 應用領域：半導體、光伏產業、平板顯示、存儲、生物、醫藥、化學、電化學、光學鍍膜和保護膜、減反膜、透明導電膜、聚合物膜、自組裝膜、光刻材料… 特點： 非接觸測量；小于1nm的膜也能被準確測量 |
