光柵也稱衍射光柵，是利用多縫衍射及干涉原理使光發生色散（分解為光譜）的光學元件。它是一塊刻有大量平行等寬、等距狹縫（刻線）的平面玻璃或金屬片。光柵的狹縫數量很大，一般每毫米幾十至幾千條。單色平行光通過光柵每個縫的衍射和各縫間的干涉，形成暗條紋很寬、明條紋很細的圖樣，這些銳細而明亮的條紋稱作譜線。譜線的位置隨波長而異，當復色光通過光柵后，不同波長的譜線在不同的位置出現而形成光譜。光通過光柵形成光譜是單縫衍射和多縫干涉的共同結果。
長春長光格瑞光電技術有限公司建有復制各種平面、球面和非球面光柵的生產線，具有復制400mm × 500mm以下面積光柵的能力，具備年產20萬塊復制光柵的能力，擁有光柵檢測設備十余臺套，可對光柵的衍射效率、分辨本領、鬼線強度和衍射波前進行測量，具有每年檢測20萬塊光柵的能力。
全息光柵制作工藝>>
制作全息光柵的主要技術包括基底處理、勻膠、曝光、顯影、離子束刻蝕、鍍膜等過程，每個 環節上的細微紕漏都可能造成光柵質量的下降，甚至導致失敗。首先將處理好的光柵基底表面涂敷一定厚度的光刻膠，將此基底放入干涉系統中曝光，記錄下干涉條紋，接著將曝光后的基底放入顯 影液中顯影即獲得光刻膠光柵，然后進行離子束刻蝕，最后經過清潔處理和真空鍍膜，就可以獲得 反射式全息光柵。
平面全息光柵>>
兩束相干光相遇時會產生干涉條紋，用光敏材料記錄并形成光柵刻槽，條紋間距由兩束光的 夾角和波長確定。由于刻槽位置由干涉條件決定，所以用這種方式制作的光柵沒有機械刻劃造成的 隨機性和周期性誤差。
平面全息光柵母板刻線密度從1200lines/mm到4321 lines/mm,使用波段為170-1800nm。 還可以根據用戶需要，制作新的全息光柵母板。
編號 | 刻線密度（I/mm） | 光普范圍(nm) | 閃耀或峰值波長(nm) | 刻劃面積（H x W，mm2） |
H11-001 | 1200 | 190-800 | 220 | 64x64 |
H11-002 | 1800 | 190-1000 | 250 | 108x108 |
H11-003 | 2400 | 190-800 | 250 | 40x40 |
H11-004 | 3600 | 170-500 | 190 | 58x5 |
H11-005 | 4321 | 160-450 | 170 | 58x58 |
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