膜厚儀 FR-Mic 是一款快 速、準(zhǔn)確測量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,可以將光斑縮小到幾個微米,進(jìn)而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺專用計算機(jī)控 制的 XY 工作臺,使其快 速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性 。也可以搭配自動平臺測量 400x400mm 大小樣品。
Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區(qū)域薄膜厚度,厚度映射,光學(xué)常數(shù),反射率,折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測量。
【相關(guān)應(yīng)用】
- 高校 & 研究所實驗室
- 半導(dǎo)體制造 (氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)
- MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
- LEDs, VCSELs 多層膜測量應(yīng)用
- 數(shù)據(jù)存儲
- 陽極處理氧化膜
- 曲面基底的硬化涂層
- 聚合物膜層, 粘合劑.
- 生 物醫(yī)學(xué)(聚對二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
- OEM或客制化應(yīng)用
【特點(diǎn)】
- 實時光譜測量
- 薄膜厚度,光學(xué)特性,非均勻性測量, 厚度映射
- 使用集成 USB 高品質(zhì)彩色攝像機(jī)進(jìn)行成像 (所視即所測)

【技術(shù)參數(shù)】
型號 UV/VIS UV/NIR-EXT UV/NIR-HR DUV/NIR VIS/NIR DVIS/NIR NIR NIR-N2 光譜波長范圍(nm) 200–850 200–1020 200-1100 200–1700 370–1020 370–1700 900–1700 900-1050 光譜儀像素 3648 3648 3648 3648 & 512 3648 3648 & 512 512 3648 膜厚測量范圍 5X- VIS/NIR 4nm-60um 4nm-70um 4nm-90um 4nm-150um 15nm-90um 15nm-150um 100nm-150um 4um-1mm(SiO2) 10X- UV/VIS/NIR 4nm-50um 4nm-60um 4nm-80um 4nm-130um 15nm-80um 15nm-130um 100nm-130um 4um-400um(Si) 15X- UV/NIR 4nm-40um 4nm-50um 4nm-50um 4nm-120um - - 20X- UV/VIS/NIR 4nm-25um 4nm-30um 4nm-30um 4nm-50um 15nm-30um 15nm-50um 100nm-50um 40X- UV/NIR 4nm-4um 4nm-4um 4nm-5um 4nm-6um - - 50X- VIS/NIR - - - - 15nm-5um 15nm-5um 100nm-5um 測量n&k蕞小厚度 50nm 50nm 50nm 50nm 100nm 100nm 500nm 準(zhǔn)度 3. 0.1% or 1nm 0.2% or 2nm 50nm or 0.2% 精度 4.. 0.02nm 0.02nm 5nm 重覆性 5. 0.05nm 0.05nm 5nm 光源 氘燈&鹵素?zé)?/span>(internal) 鹵素?zé)?/span>(internal)10000 小時 (MTBF) 材料數(shù)據(jù)庫 >650內(nèi)建材料數(shù)據(jù)庫
*測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關(guān)。
物鏡 | 光斑尺寸(μm) | ||
500μm孔徑 | 250μm孔徑 | 100μm孔徑 | |
5x | 100μm | 50μm | 20μm |
10x | 50μm | 25μm | 10μm |
20x | 25μm | 17μm | 5μm |
50x | 10μm | 5μm | 2μm |
- 規(guī)格如有更改,恕不另行通知
- 測量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀和 XRD 相比較,
- 連續(xù) 15 天測量的標(biāo)準(zhǔn)方差平均值。樣品:(1um SiO2 on Si.) ,
- 100 次厚度測量的標(biāo)準(zhǔn)方差,樣品:1um SiO2 on Si.
- 超過 15 天的標(biāo)準(zhǔn)偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。
- 使用反射式物鏡
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