技術參數
產品名稱 | 1200℃滑動式三溫區CVD系統 | ||
系統型號 | CVD-12IIIH-3Z/G | CVD-12III9H-3Z/G | |
溫度 | 1200℃ | ||
加熱區長度 | 655mm | 940mm | |
恒溫區長度 | 500mm | 700mm | |
溫區 | 三溫區 | 三溫區 | |
石英管管徑 | Φ50/Φ60/Φ80 | Φ80/Φ100/Φ120 | |
額定功率 | 4.8Kw | 7.2Kw | |
額定電壓 | 220V | 380V（三相） | |
滑動距離 | 507mm | 650mm | |
滑動方式 | 自動滑動/手動滑動 | ||
溫度控制 | 國產程序控溫系統50段程序控溫 | ||
控制精度 | ± 1℃ | ||
爐管工作溫度 | < 1200℃ | ||
氣路法蘭 | 本實用新型在密封法蘭與管件鏈接的地方采用多環密封技術，在密封法蘭與管件外壁間形成了密封，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效，該密封法蘭的安裝只需在次使用設備的時候安裝 | ||
氣體控制方式 | 質量流量計 | ||
氣路數量 | 3路（可根據具體需要選配氣路數量） （） | ||
流量范圍 | 0-500sccm（標準毫升/分，可選配）氮氣標定 | ||
精度 | ± 1%F.S | ||
響應時間 | ≤ 4sec | ||
工作溫度 | 5-45℃ | ||
工作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa（表壓力） | ||
系統連接方式 | 采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數顯真空測量儀 | ||
規格 | 中真空 | 高真空 | |
系統真空范圍 | 10pa-100pa | 1×10-3pa-1×10-1pa | |
真空泵 | 雙級機械泵理論極限真空度3x10-1pa，抽氣速率4L/S， | 真空分子泵理論極限真空度5x10-6pa， | |
出氣口配有油污過濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw | 抽氣速率1600L/S額定電壓220V，功率2Kw | ||
爐體外形尺寸 | 360× 815 ×555mm | ||
系統外形尺寸 | 530*1440*750mm | 530*1440*750mm（不含高真空） | |
系統總重量 | 255Kg | 355Kg | |
產品用途
此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結，真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。
CVD系統配置
1200度開啟式真空管式爐（可選配多溫區）。
滑動系統分為手動、電動滑動，并配有風冷系統及管內測溫系統。
多路質量流量控制系統。
真空系統（可選配中真空或高真空）。
產品特點
控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
氣路快速連接法蘭結構采用本公司的知識產權設計，提高操作便捷性。
中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。
（電動）滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，印有滑動限位功能，爐體不會發生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統快速降溫。
選配件 產品型號位表示儀表配置（可選配）： 
