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    • 斯派克lab11立式火花臺式直讀光譜儀

    斯派克lab11立式火花臺式直讀光譜儀

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    • 型號
    • 品牌
    • 所在地
    • 更新時間2022-03-28
    • 廠商性質(zhì)其他
    • 所在地區(qū)上海
    • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
    • 產(chǎn)品數(shù)量146
    • 人氣值1442
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    上海桓球儀器設(shè)備有限公司專業(yè)提供從基礎(chǔ)型到專業(yè)化的實驗室解決方案,多年來堅持服務(wù)于國內(nèi)分析領(lǐng)域,為各級實驗室提供世界*品質(zhì)的檢測儀器,并以專業(yè)、全面的技術(shù)支持和售后服務(wù)贏得了良好聲譽(yù),是國內(nèi)具有實力的實驗室基礎(chǔ)儀器集成供應(yīng)商,擁有廣泛而穩(wěn)固的客戶群體和分銷網(wǎng)絡(luò)。 桓球儀器總部設(shè)在上海浦東,并在杭州、南京、武漢等地設(shè)有聯(lián)絡(luò)處,業(yè)務(wù)覆蓋34個省市自治區(qū)。公司廣泛服務(wù)于我國國民經(jīng)濟(jì)的眾多領(lǐng)域,如質(zhì)檢機(jī)構(gòu)、科研院所、大專院校、冶金及金屬加工、機(jī)械制造、石油化工、塑料橡膠、電線電纜、紡織纖維、食品及包裝等行業(yè),產(chǎn)品涵蓋計量儀器、實驗室通用儀器、化學(xué)分析、物性測試、生化測試、無損檢測等。公司還與國內(nèi)外制造商緊密合作,因此提供的產(chǎn)品匯集國內(nèi)外優(yōu)秀行業(yè)人士精心研究、開發(fā)制造,在科學(xué)管理的基礎(chǔ)上,嚴(yán)格按ISO質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),控制產(chǎn)品質(zhì)量,提供本地化的技術(shù)支持和服務(wù),使得桓球成為廣大客戶理想的供應(yīng)商。 公司目前擁有十多個歐、美、日、國內(nèi)品牌,產(chǎn)品資源豐富,種類齊全。品牌包括有Thermo Fisher、Zeiss 、Olympus、Hexagon、Spectro、Mitutoyo、Taylor Hobson、Mahr、Agilent、Shimadzu、Perkinelme、Bruker 、Analytik Jena、Metrohm等國內(nèi)外的一級代理權(quán)。 “桓球儀器,見證成長”是我們的企業(yè)宗旨和共同愿景,“品質(zhì)服務(wù),一直”這句口號將推動我們追求更高的目標(biāo)。我們的團(tuán)隊在技術(shù)及客戶服務(wù)方面積累了豐富的經(jīng)驗,我們始終努力去做正確的事,誠實正直,坦率待人。我們的業(yè)務(wù)運(yùn)作恪守法律的文字規(guī)定和內(nèi)涵精神,以此在商業(yè)活動上取得成功和贏得尊重。 我們深信:擁有比以往任何時候更多的人才、技術(shù)和實力,并提供完善的售后服務(wù)、持久的穩(wěn)定性、更大的可信度和更豐富經(jīng)驗的技術(shù)支持,深知客戶的需求,并幫助客戶成功,我們才能成功!
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    產(chǎn)品特點(diǎn)配備技術(shù)自循環(huán)凈化裝置(UV-PLUS)的光學(xué)系統(tǒng)SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)了傳統(tǒng)光電管光學(xué)系統(tǒng)和CCD全譜光學(xué)系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)
    斯派克lab11立式火花臺式直讀光譜儀 產(chǎn)品詳情


    產(chǎn)品特點(diǎn)

    配備技術(shù)自循環(huán)凈化裝置(UV-PLUS)的光學(xué)系統(tǒng)
    SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)了傳統(tǒng)光電管光學(xué)系統(tǒng)和CCD全譜光學(xué)系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)。采用優(yōu)化帕邢—龍格原理的“半殼”鑄造鋁框架技術(shù)提供了超常堅固的機(jī)械結(jié)構(gòu),同時減小了內(nèi)部容積。為減少外部環(huán)境的影響,光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部恒溫恒壓。
    主光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部包括兩個的光譜模塊—光電管光學(xué)部分和CCD光學(xué)部分,各自配備一個原級全息光柵。第三光學(xué)系統(tǒng)是一個的空氣光學(xué)系統(tǒng),將波長范圍擴(kuò)展到780nm。的自循環(huán)凈化系統(tǒng)(UV-PLUS)用于測量紫外波段(UV)和遠(yuǎn)紫外波段(VUV)光譜。嚴(yán)格密封的光學(xué)室內(nèi)部充以氬氣,無需復(fù)雜的技術(shù)可以實現(xiàn)紫外及遠(yuǎn)紫外光在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)不被吸收。分子薄膜泵驅(qū)動氬氣在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部和凈化裝置中循環(huán)。可以避免采用真空系統(tǒng)產(chǎn)生的油蒸氣污染或流動沖氣系統(tǒng)帶來的外部污染。保持潔凈的光學(xué)系統(tǒng)和優(yōu)異的長期穩(wěn)定性表現(xiàn)。UV-PLUS的優(yōu)點(diǎn)是較大程度降低了運(yùn)行成本,并且在120-180nm的遠(yuǎn)紫外光譜波段提供了出色的光學(xué)表現(xiàn)。
    *的光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和UV-PLUS技術(shù),使得創(chuàng)新的SPECTROLAB光學(xué)系統(tǒng)能夠記錄120-780 nm波段的所有的一級相關(guān)光譜信息,CCD光學(xué)系統(tǒng)的光譜分辨率達(dá)到9皮米。
    等離子發(fā)生器激發(fā)光源:新的研發(fā)的SPECTRO高效等離子發(fā)生器激發(fā)光源可以提供穩(wěn)定的火花放電。采用全數(shù)字信號發(fā)生和激發(fā)過程控制,激發(fā)區(qū)域的等離子能量可以高精度、高保真輸出。由于具備了全新的激發(fā)參數(shù)設(shè)置以及高純度的信號輸出,激發(fā)光源的精度得以明顯提析精度因此明顯提析周期較大程度縮短。對于標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用程序,每次分析時間不超過18秒。
    分析性能
    根據(jù)用戶需求,量身定制。十種標(biāo)準(zhǔn)基體鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅,可以與五種貴金屬基體:金、銀、鉑、鈀和釕組合配置。在 CCD 光學(xué)系統(tǒng)中可以實現(xiàn)120-780nm波長范圍內(nèi)所有元素的全譜記錄。在光電管光學(xué)系統(tǒng)中多可以放置108個高性能光電備增管通道,每個通道配有微積分器(TRS功能)和單火花評估(SSE功能)。由此可以保證每一分析要求得以佳化滿足。配備新現(xiàn)代化的光譜技術(shù)和高質(zhì)量的組成部件,SPECTROLAB適用于各種分析要求。出眾的分析性能與高度靈活性相結(jié)合,能夠勝任諸如:過程控制分析,來料及成品檢驗,研究開發(fā)部門、檢驗檢測機(jī)構(gòu)等各方面分析任務(wù)。
    讀出系統(tǒng)
    新設(shè)計的讀出系統(tǒng)可以同時處理來自光電管檢測器和CCD檢測器的信號。共有22塊(加第三光學(xué)系統(tǒng)共37塊)CCD檢測器,每個CCD包括3800像素,類似全譜波長掃描,測量后大量數(shù)據(jù)結(jié)果可以集中顯示。這為材料研究(如未知材料判定,新合金配方等)提供了新的分析手段。日常分析過程基于選定的光譜線,只有元素的信號被采集。這可以實現(xiàn)瞬時信號的實時采集。分析結(jié)果可以取自整個測量過程中某一時序的瞬時信號測定。根據(jù)應(yīng)用要求,某些光譜線采用光電倍增管測量。光電流由微積分器處理,可以實現(xiàn)微秒級測量,每一單個火花放電過程可進(jìn)行100次以上的步進(jìn)測量,每個光電管通道的光譜峰值由步進(jìn)過程描跡而成。實現(xiàn)這些步進(jìn)過程測量以后,就可以根據(jù)需要定義測量“窗口”為其中某一時段動態(tài)范圍或較好信背比時段(痕量火花分析技術(shù)SAFT),用以分析微量元素。相對于傳統(tǒng)的積分測量技術(shù),現(xiàn)在可以測量每一單個火花的放電信號,而不是將千百次火花放電的總信號量積分成一個總量。由此實現(xiàn)剔除因樣品中夾雜物或氣造成的“失敗”放電信號。SSE單火花評價技術(shù)可以明顯提較高的析性能。可以按照分析要求分別定義每一光電管通道的SAFT和SSE功能,也可以在一個分析周期內(nèi)多次定義。這一靈活性可以在短的分析時間內(nèi)獲得佳分析結(jié)果。

    技術(shù)參數(shù)

    多光學(xué)系統(tǒng):帕邢—龍格結(jié)構(gòu),光柵焦距 750 mm,羅蘭圓,光學(xué)系統(tǒng)恒溫
    分析波長范圍:120-780 nm
    的氬氣自動循環(huán)氣體凈化系統(tǒng),用于分析小于200 nm波長的譜線
    光路氬氣沖洗系統(tǒng)
    全息原級光柵 3600,2924線/毫米
    光柵材料:微晶石英
    主光學(xué)系統(tǒng):3600線/毫米光柵,0.37 nm/mm (1級光譜)2924線/毫米光柵,0.46/0.23 nm/mm(1/2 級光譜)第三光學(xué)系統(tǒng)400 mm焦距2400線/毫米光柵,1.04 nm/mm (1級光譜)
    熱量吸收裝置,無需水冷卻
    采光快門優(yōu)化觀測角度激發(fā)系統(tǒng):全數(shù)字等離子發(fā)生器。數(shù)字放電參數(shù)設(shè)定,數(shù)字脈沖發(fā)生器,數(shù)字離線脈沖控制,32MHz微處理器控制,采樣速率:200微秒400次,能量分辨率:125毫瓦,長單次火花放電時間:4000微秒,火花功率:4千瓦
    光電管和CCD系統(tǒng)平行運(yùn)行,平行12 Bit模數(shù)轉(zhuǎn)換器,每個信道1 MHz
    系統(tǒng)和操作過程自動診斷
    外置計算機(jī)控制:Windows操作系統(tǒng) 鍵盤和鼠標(biāo) 打印機(jī)
    電源要求:230 VAC -15%/+10%,50 HZ
    待機(jī)功率 0.5 kVA 激發(fā)功率 1.0 kVA 16 A 慢熔保險絲
    儀器尺寸:1674× 771× 1409毫米(長×寬×高)
    重量:重約520kg(不包括附屬設(shè)備)
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