主要特點(diǎn):
1、**、快捷的分析性能（僅15-30秒）；
2、動(dòng)態(tài)范圍：從ppm—% ；
3、開闊的火花臺(tái)以及特殊的小樣品夾具，保證儀器適用于各種形狀的金屬樣品分析；
4、精確：優(yōu)于1%的偏差 ；
5、優(yōu)異的氮元素分析性能；
6、高穩(wěn)定性，高可靠性；
7、可選配多塊高性能CCD檢測(cè)器系統(tǒng)，根據(jù)應(yīng)用需要最多達(dá)16塊CCD檢測(cè)器，增加儀器基體及元素分析升級(jí)的靈活性；
8、高等級(jí)標(biāo)樣標(biāo)定；
9、PC控制的變頻高能預(yù)火花（HEPS）；
10、高精度的溫度與壓力控制；
11、高級(jí)軟件功能，操作便捷，易于掌握；
12、適用于各種金屬材料分析；
光學(xué)系統(tǒng)：
1、巴邢-龍格架法，焦距：500 mm；
2、高性能全息衍射光柵，光柵刻線2700條/mm和3600條/mm ；
3、每塊CCD 3,648 像素，**58,368 像素的分辨率(16 *3,648 像素) ；
4、譜線波長(zhǎng)：130 - 800 nm由衍射光柵的選擇決定。光柵的選擇由制造商根據(jù)分析元素和分析程序來決定；
5、密閉的真空光學(xué)室可以避免灰塵、光線的干擾；
激發(fā)平臺(tái)：
1、開放式的火花臺(tái),可以分析重達(dá)20Kg的各種形狀的樣品；
2、電極易于拆卸維護(hù)；
3、氬氣吹掃火花臺(tái)，支持快速樣品更換；
4、不同樣品的適配器可滿足各種樣品的需求（可選）；
激發(fā)光源：
1、全自動(dòng)控制火花源；
2、半導(dǎo)體控制放電激發(fā)；
3、1 到 100 A等低氬氣消耗；
4、使用便捷的樣品離子體電流；
5、放電參數(shù)由密碼保護(hù)；
6、特別的分析要求可有不同的激發(fā)參數(shù)；
7、火花光源放電穩(wěn)定，不受供電系統(tǒng)波動(dòng)的影響；
8、激發(fā)參數(shù)由激發(fā)線和分析程序標(biāo)定和控制；
9、火花源可有多種參數(shù)設(shè)置；
10、火花頻率: 200 到 to 1000 Hz （可控）；
11、火花持續(xù)時(shí)間 10-10000 us (可控）；
光譜儀控制系統(tǒng)和數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)：
1、電子系統(tǒng)具有微處理器控制的多通道積分和數(shù)據(jù)系統(tǒng)采集功能；
2、高速16位模數(shù)轉(zhuǎn)換器；
3、ISP混合信號(hào)Flash微控制器100MHz；
4、多種連接源；
5、高速讀出及高速USB接口支持快速數(shù)據(jù)控制與處理系統(tǒng)；
6、最多16塊CCD模塊，由制造商根據(jù)應(yīng)用情況選擇；
WinLab10 分析軟件：
1、計(jì)算每種元素的校正曲線需考慮到各種基體（參考線）；
2、智能化 : 用一組標(biāo)樣即可完成標(biāo)準(zhǔn)化；
3、便于操作的用戶圖形界面；
4、創(chuàng)建或修改分析程序；
5、常用的操作功能鍵；
6、可選擇的輸出方式 ( 強(qiáng)度，強(qiáng)度比，未校正的濃度，校正后的濃度等) ；
7、可選擇的濃度單位 ( ppm, % )；
8、通用標(biāo)準(zhǔn)化；
9、微型標(biāo)準(zhǔn)化；
10、校正元素間的干擾；
11、自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)化；
12、標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差功能；
13、合金類型鑒定（UNI, ISO, DIN, EN, ASTM, JIS, BS, 等） ；
14、標(biāo)樣庫(kù)；
15、國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)庫(kù)；
16、牌號(hào)鑒定；
17、支持C當(dāng)量或其他參數(shù)的計(jì)算；
18、可標(biāo)記超出工作曲線范圍的元素分析結(jié)果；
19、具有根據(jù)分析時(shí)間或激發(fā)次數(shù)自動(dòng)再校正功能；
20、統(tǒng)計(jì)功能軟件；
21、統(tǒng)計(jì)計(jì)算；
22、可打印所有激發(fā)結(jié)果或是最多100次的激發(fā)平均結(jié)果，及其標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差；
23、硬盤存儲(chǔ)數(shù)據(jù)便于今后的研究分析，可連接外部計(jì)算機(jī)或中心系統(tǒng)；
