| 設備名稱 | 卷對卷石墨烯制備管式爐系統—OTF-1200X-II-PE-RR （2019.12.25—科晶實驗室審核） | ||||||||||||||||||||||||||||||||
| 產品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設備尺寸設備 3、科晶實驗室邀請提示 4、配件妥善保管提示 | ||||||||||||||||||||||||||||||||
| 產品特點 | ? 射頻電源可實現等離子增強從而顯著降低實驗溫度； ? 質子流量計控制系統可以對氣體的輸送進行精確的調控； ? 收放卷機構別放置于管式爐兩端真空腔體內，可保證銅箔在密閉的生長條件下進行運動，可有效的實現大規模制備。 | ||||||||||||||||||||||||||||||||
| 加熱爐參數 | ? 溫度：1100oC（<><> ? 工作電源：AC 220V，50/60Hz，功率：3KW； ? 兩個PID溫度控制器以及30段可編程溫控系統，控溫精度：±1℃； ? 爐膛保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維，并且內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，反射率及延長儀器的使用壽命。
更多參數請聯系科晶銷售部 | ||||||||||||||||||||||||||||||||
| 卷對卷銅箔收放密封裝置 | ? 采用卷對卷收放卷機構進行銅箔的移動及進出料，銅箔的移動速度為1-400mm/min可調； ? 配置一卷約5 kg的銅箔，銅箔寬度：65mm，銅箔厚度0.025mm； ? 收卷機構與管式爐之間設置冷卻裝置用于銅箔的快速冷卻； ? 可根據要求提供特定的卷繞速度控制器及密封法蘭。
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| 石英氣體噴嘴 | ? 石英氣體噴嘴可將反應氣體與緩沖清洗氣體分開通入，有效地減少副反應發生，實現CVD工藝，如局部控制前體濃度化學氣相沉積工藝或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。
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| 射頻電源 | ? 科晶公司現有不同功率的射頻電源可供選擇，以滿足不同實驗條件的需求。
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| 真空系統 | ? 采用TRP-12的雙旋真空泵； ? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵； ? 真空度可達10-2Torr。
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| 供氣系統 | ? 四通道質子流量計控制系統可實現氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）； ? 流量范圍:
? 電壓：208-240V， AC， 50/60Hz； ? 氣體進出口配件：6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管； ? 不銹鋼針閥用于手動控制氣體進出； ? PLC觸摸屏可以簡便地進行氣體流量設置。
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| 產品尺寸和重量 | ? 整體尺寸：2400 mm L ′600mmW′1250mm H； ? 凈重：260kg； ? 運輸重量：500 kg。
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| 認證 | ? CE認證 ? 所有電器元件通過 UL / MET / CSA認證 ? 如您另外付費，我們可以保證單臺儀器的TUV(UL61010)或CSA 認證
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| 承諾 | ? 一年質保期，終身維護（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件） |
