產品特性：
• 通過利用常規過程數據和專有技術重新設計了易用性
• 通過在負載鎖定室中安裝暗盒機構（可選）來提高生產率
• zui大基板傳送尺寸為Φ300mm（在中心Φ200mm處保證了厚度分布）。
• 支持堆疊/同時濺射多個陰極
• 通過觸摸屏和配方輸入自動處理，節省了人工
• 可以記錄數據
產品應用：
• 電極成膜/多層電極及同時成膜應用
• 形成狄登膜，絕緣膜，鈍化膜，保護膜等
• 用于電子零件和小規模生產的研發產品特性：
• 通過利用常規過程數據和專有技術重新設計了易用性
• 通過在負載鎖定室中安裝暗盒機構（可選）來提高生產率
• zui大基板傳送尺寸為Φ300mm（在中心Φ200mm處保證了厚度分布）。
• 支持堆疊/同時濺射多個陰極
• 通過觸摸屏和配方輸入自動處理，節省了人工
• 可以記錄數據
產品應用：
• 電極成膜/多層電極及同時成膜應用
• 形成狄登膜，絕緣膜，鈍化膜，保護膜等
• 用于電子零件和小規模生產的研發產品特性：
• 通過利用常規過程數據和專有技術重新設計了易用性
• 通過在負載鎖定室中安裝暗盒機構（可選）來提高生產率
• zui大基板傳送尺寸為Φ300mm（在中心Φ200mm處保證了厚度分布）。
• 支持堆疊/同時濺射多個陰極
• 通過觸摸屏和配方輸入自動處理，節省了人工
• 可以記錄數據
產品應用：
• 電極成膜/多層電極及同時成膜應用
• 形成狄登膜，絕緣膜，鈍化膜，保護膜等
• 用于電子零件和小規模生產的研發
