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    • 射頻離子源典型應用 IBE 離子蝕刻 鍍膜機

    射頻離子源典型應用 IBE 離子蝕刻 鍍膜機

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    具體成交價以合同協議為準
    • 型號
    • 品牌
    • 所在地上海市
    • 更新時間2025-04-02
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    • 所在地區上海市
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    產地進口 加工定制
    上海伯東離子源典型應用: 安裝在離子蝕刻機中的 KRI 射頻離子源, 對應用于半導體后端的6寸晶圓進行刻蝕
    射頻離子源典型應用 IBE 離子蝕刻 鍍膜機 產品詳情

    價格電議
    KRI 射頻離子源典型應用 IBE 離子蝕刻
    上海伯東美國 KRI 射頻離子源安裝在日本 NS 離子蝕刻機中, 對應用于半導體后端的 6寸晶圓進行刻蝕
    Hakuto (NS) 離子蝕刻機技術規格:

    型號

    NS 7.5IBE

    NS 10IBE

    NS 20IBE-C

    NS 20IBE-J

    適用范圍

    適用于科研院所,實驗室研究

    適合小規模量產使用和實驗室研究

    適合中等規模量產使用的離子刻蝕機

    適合大規模量產使用的離子刻蝕機

    基片尺寸

    Φ4 X 1片或
    Φ6 X 1片

    φ8 X 1片

    φ3 inch X 8片
    φ4 inch X 6片
    φ8 inch X 1片

    Φ4 inch X 12片
    φ5 inch X 10片
    φ6 inch X 8片

    離子源

    8cm 或 10cm
    考夫曼離子源

    10cm NS離子源

    20cm 考夫曼離子源

    20cm 考夫曼離子源

    上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長
    RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應器, 中和器, 電源控制等
    RFICP  系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等

     

    若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 歡迎聯絡上海伯東葉小姐,分機109
    射頻離子源典型應用 IBE 離子蝕刻
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