磁控濺射系統
帶有水冷或者加熱（zui高可加熱到700度）功能，zui大到8“旋轉平臺，zui大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-4000（M）磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能，zui大到8"旋轉平臺，zui大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-4000帶有13”鋁質腔體，4個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，500 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-4000（M）磁控濺射系統產品特點：
- 不銹鋼，鋁質腔體
- 260或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
- 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
- 晶振夾具具有的<1 Å的厚度分辨率
- 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
- 基于LabView軟件的PC計算機控制
- 帶密碼保護功能的多級訪問控制
- *的安全聯鎖功能
NSC-4000（M）選配項：
- 不銹鋼腔體
- 熱蒸鍍能力
- RF、DC濺射
- RF或DC偏壓（1000V）
- 樣品臺可加熱到700°C
- 膜厚監測儀
- 基片的RF射頻等離子清洗
- 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
NSC-4000（M）應用：
- 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
- 光學以及ITO涂覆
- 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
- 帶RF射頻等離子放電的反應濺射
