三目暗場金相顯微鏡WYJ-55BD
適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器。總放大倍數(shù)：50-600X
產(chǎn)品概述
三目暗場金相顯微鏡WYJ-55BD采用優(yōu)良的無限遠光學(xué)系統(tǒng)與多功能、模塊化的設(shè)計理念，帶有偏光裝置、暗場裝置，可實現(xiàn)偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學(xué)要求的理想設(shè)計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器。總放大倍數(shù)：50-600X
◆產(chǎn)品特點：三目暗場金相顯微鏡WYJ-55BD
1、采用了*的無限遠光路設(shè)計，提供了的光學(xué)系統(tǒng)。
2、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰。
3、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能。
4、整機采用了防霉處理，保護了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。
5、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
◆典型應(yīng)用：
1、電子工業(yè)制造業(yè)對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗。
2、觀察材料表面的某些特性，3、分析金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織。
規(guī)格參數(shù)
一、顯微鏡參數(shù)：
序號 | 名稱 | 技術(shù)參數(shù) |
01 | 平場目鏡 | 大視野WF10X(Φ22mm) |
02 | 明暗平場物鏡 | 無限遠長距PLL 5X/0.10、10X/0.25、20X/0.40、40X/0.60、60X/0.75 |
03 | 總放大倍數(shù) | 50X-600X |
04 | 觀察頭 | 三目，鉸鏈?zhǔn)?0°傾斜可360°旋轉(zhuǎn) |
05 | 轉(zhuǎn)換器 | 五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位) |
06 | 粗微調(diào)焦機構(gòu) | 粗微動同軸調(diào)焦,帶鎖緊和限位裝置,微動格值:2μm. |
07 | 載物臺 | 雙層機械移動式(尺寸:210mmX140mm,移動范圍: 75mmX50mm) |
08 | 光瞳距離 | 53-75mm |
09 | 濾色片 | 藍、磨砂 |
10 | 聚光鏡 | 阿貝聚光鏡N.A.1.25，帶可變光欄，可上下升降 |
11 | 落射照明系統(tǒng) | 12V30W鹵素?zé)? 亮度可調(diào) |
內(nèi)置視場光欄、孔徑光欄、(藍、綠、黃、磨砂玻璃)濾色片轉(zhuǎn)換裝置， | ||
12 | 暗場偏光裝置 | 推拉式起偏振器 暗場可移出視場 |
13 | 透射照明系統(tǒng) | 12V30W 鹵素?zé)?亮度可調(diào) |
14 | 儀器重量 | 凈重10.0公斤 毛重12.0公斤 |
15 | 儀器尺寸 | 儀器尺寸26X46X55（cm） 包裝尺寸28X35X65(cm) |
二、目鏡參數(shù)：
| 放大倍率 | 視場直徑(mm) | 外徑(mm) |
WF10X/22 | 10X | Φ22 | Φ30 |
三、物鏡參數(shù)：
| 數(shù)值孔徑 N.A | 分辨率 R(μm) | 工作距離WD(mm) | 共軛距離Conjugate(mm) | 齊焦距離Parfocus(mm) | 蓋玻片厚度CoverGlass(mm) |
5X | 0.12 | 2.10 | 9.70 | ∞ | 45 | 無 |
10X | 0.25 | 1.10 | 9.30 | ∞ | 45 | 無 |
20X | 0.40 | 0.70 | 7.23 | ∞ | 45 | 無 |
40X | 0.60 | 0.55 | 3.00 | ∞ | 45 | 無 |
60X | 0.75 | 0.42 | 1.90 | ∞ | 45 | 無 |
