真空管式氣氛爐廠家這款CVD系統(tǒng)集管式氣氛爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質子流量器和浮子流量控制器）。
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真空管式氣氛爐廠家性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。CVD真空管式爐CVD真空管式爐CVD真空管式爐，高溫真空管式爐廠家
高真空管式爐
爐管尺寸外徑Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm
極限溫度1700 ℃
工作溫度800 -1600 ℃
溫度控制器PID自動控制 晶閘管（可控硅）輸出功率， 50段可編程控制器
zui快升降溫速率1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min
加熱區(qū)360mm
恒溫區(qū)150mm
溫度精度±1 ℃
電源單相220V,交流50Hz
多通道流量計控制系統(tǒng)
標準量程100，200 ，500，1000SCCM； （以氮氣標定，除以上標準外量程可選）
準確度±1.5%
工作壓差范圍0.01～0.05 MPa
zui大壓力0.02MPa
接頭類型Φ6雙卡套不銹鋼接頭
高真空系統(tǒng)泵體積流量N233 L/S
壓縮比10:11
實驗真空值6.7*10-3Pa
功率消耗140W
啟動時間2min
電源要求：185-265VAC
