膜厚測試儀
是一款可靠的采用X-射線熒光方法和*的微聚焦X-射線光學方法來測量和分析微觀結構鍍層的測量系統。
它的出現解決了分析和測量日趨小型化的電子部件，包括線路板，芯片和連接器等帶來的挑戰。這種創新技術的，目前正在申請的X-射線光學可以使得在很小的測量面積上產生很大的輻射強度，這就可以在小到幾?reg;微米的結構上進行測量。
膜厚測試儀它的出現解決了分析和測量日趨小型化的電子部件，包括線路板，芯片和連接器等帶來的挑戰。這種創新技術的，目前正在申請的X-射線光學可以使得在很小的測量面積上產生很大的輻射強度，這就可以在小到幾?reg;微米的結構上進行測量。
膜厚測試儀在經濟上遠遠優于多元毛細透鏡的Fischer專有X-射線光學設計使得能夠在非常精細的結構上進行厚度測量和成分分析。XDVM-µ可以勝任測量傳統的鍍層厚度測量儀器由于X-射線熒光強度不夠而無法測量到的結構。
具有強大功能的X-射線XDVM-µ帶WinFTM® V6 軟件可以分析包含在金屬鍍層或合金鍍層中多達24種獨立元素的多鍍層的厚度和成分。
儀器介紹:
WinFTMV6 是一套專門為解決含量分析和鍍層測量的軟件
WinFTMV6可在WindowsTM9X//NT/XP平臺上運行；因為透過簡單操作及準確的分析結果，所以便能夠提升生產力。WinFTMV6還有以下的特色……
特大屏幕能提供畫中畫顯示分析結果，光譜及彩色影像圖，圖像亦可以用JPG格式儲存。
儀器能同時間分析zui多24種不同的元素；根據可檢定的元素范圍由x ppm到，所以原子序號可由氯Cl=17）到鈾（Uranium Z=92）。
可同時測量23層不同元素鍍層的厚度。
共有1024頻道顯示清晰光譜，可隨意選用不同顏色及儲存光譜圖，方便日后加以分析。
因為不同受檢樣本的光譜可以進行比較，所以便快捷和容易地得出兩種不同樣本含量的分別。
快速的頻譜分析以決定合金成分。
可以隨意創建元素分析應用程式。
透過預先設入的14種純元素作為資料庫，儀器便可以不需用標準片調校亦能以基本系數（FP）進行分析；如果輸入已知的元素更可快捷地得出含量結果。
可同時接受zui多10種不同含量的標準片來調校儀器，所得出的結果更精確及可信賴。
用滑鼠選擇已經儲存的應用檔案后，便可即時進行含量分析。
測量樣品后，可透過“analysis”功能按鍵，儀器便會自動偵測內里的元素含量。
