1700度真空坩堝爐(側開式)，可以分為低溫、中溫、高溫三種加熱形式，加熱元件可分為電阻絲（1200℃以下使用）、硅碳棒（1400℃以下使用）、硅鉬棒（1700℃以下使用）等；箱式爐大多以上開門形式打開，爐膛（保溫室）正常為圓形，采用雙層殼體結構和PID程序控溫系統，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，50分鐘內能達到1000度，并具有過溫、斷偶、過流保護等功能該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測用的理想產品。
產品用途：
1700度真空坩堝爐(側開式)主要用于高校、科研院所、工礦企業煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴散半導體晶片，也可以用于烘燒或燒結陶瓷材料等，主要用于熔化熔點不太高的有色金屬，如銅、鋁及其合金等。
