黑鱗剝離分散機、片層物質高速分散設備、黑鱗剝離設備、德國分散機、實驗室分散機、研發型環保分散機、納米級分散機、中試型分散機、高速分散機
黑鱗是什么？其結構及性質特點是什么呢？
與石墨類似，黑磷的結構使其可以制備二維黑磷晶體。二維材料的某些性質是 塊體材料所沒有的，目前石墨烯、二維過渡金屬硫化物都是這個領域的*。單 層黑磷優異于石墨烯和二維過渡金屬硫化物的性能主要體現在半導體和光電性能， 石墨烯有*載流子遷移率，但它的零帶隙效應使其無法實現半導體的邏輯開關； 二維過渡金屬硫化物（如MoS2）具有不錯的半導體性能，其制備的晶體管還有良好 的電信號調節性能，但它的載流子遷移率過低，限制了其在電子領域的應用。
黑磷是常見的三種磷同素異形體（hong磷、白磷和黑磷）中，形態zui為穩定的一 員。黑磷有4種晶體結構：正交、菱形、簡單立方和無定形，常溫常壓下是正交晶型 結構。跟石墨類似，黑磷也為片層結構，但不同的是，同一層內的磷原子不在同一 平面上，呈一種蜂窩狀的褶皺結構。層內具有較強的共價鍵，還留有單個的電子對， 因此每個原子都是飽和的，層與層之間原子靠范德華力作用。
比較好的處理物料的乳化效果，不僅要求設備的核心乳化部件可以進行納米級的剪切乳化，還要求設備的整個混合攪拌可以均勻分散，從而達到一個整體出色的乳化效果。這就要求乳化機設備有比較好的攪拌方式，IKN依肯乳化機采用多級優化分散頭的方式（2G、4M、6F、8SF），既保證了物料的粒徑同時也bao證了物料乳化的均勻性，乳化效果可靠。
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二維材料半導體性能對比
| 石墨烯 | MoS2 | 薄層黑磷 |
帶隙/eV | 0 | 1.8 | 0.3-1.5（可變） |
載流子遷移率/cm2·V-1 ·s -1 | 150000 | 200 | 1000（厚度 10nm 時） |
獲得高質量的二維黑磷是zui為關鍵的制備環節，研究的思路類比于結構相似的 石墨烯制備，主要的研究集中于近兩年。所以二維黑磷的制備仍在研究初步階段， 產業化尚需時日。目前制備二維黑磷的方法主要有三種：機械剝離法、液相剝離法、 脈沖激光沉積法，其中機械剝離法是zui常用的方法。
管線式超高剪切乳化機由1-3個工作腔組成，在馬達的高速驅動下，物料在轉子與定子之間的狹窄間隙中高速運動，形成紊流，物料受到更強液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質和工作腔的數量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定了粒徑分布范圍及均化、細化的效果和產量的大小。
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根據一些行業特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎上又開發出ERS2000超高速剪切分散乳化機。其剪切速率可以超過10.000 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。由于能量密度ji高,無需其他輔助分散設備。
研發型分散機在設計上的突出特點
① 可更換式加工模塊，實現混合，分散，均質，分散，懸浮，濕磨，液粉混合等多種功能。
②小試到中試， 中試到生產，無需重新調整工藝參數。
③ 軸封材料為PTFG，易于更換。
④ 可配置變頻控制柜，調節轉速及流量。
納米分散機的優勢：
1、高轉速對于獲得超細粒度產品是至關重要的，IKN分散機轉速高達14000rpm，可以將物料粒徑細化到0.2-2微米，從而得到均勻細膩的成品。
2、采用德國雙端面集裝箱式機械密封，并配有冷卻系統，可que保設備24小時連續不斷的生產，設備穩定性高。
3、模塊化設計理念，可以根據物料的具體需求變換模塊，實現多種生產需求。
IKN研發用分散機主要參數
1、主軸轉速：0-14000rpm；
2、線速度：0-44m/s；
3、定轉子結構：三層定轉子；
4、定轉子間隙：0.2-0.3mm；
5、處理量：0-300L/H；
本設備有以下方面的顯著改進和革新：
- 適應FDA的指導方針，符合美國3A衛生標準和EHEDG標準
- 適合在線清洗和在線殺菌
- 多種形式分散頭可供選擇
- 可擴大規模生產
- 從低到高的剪切效果
- 采用德國xian進的博格曼機械密封
- 降低噪音 模塊化設計
- 提供從單級到多級的各類分散頭
德國IKN制造，百年歷史，享譽quan球。在上海設有合作公司，負責銷售和服務。該系列產品產量zui高達125 噸/小時，真正CIP/SIP功能，符合美國3A 認證。機器加工實施嚴格的質量控制，各部件經久耐用，運行穩定。在諸多跨國公司贏得ji高贊譽，如巴斯夫，拜爾，德固賽，杜邦，英威達，羅地亞，羅蓋特，歐萊雅，寶潔，高露潔，雀巢，達能，喜力，GE，BP，SHELL等shi界*公司。
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