基體金屬特性：
對于磁性方法，標準片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應當與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。
對于渦流方法，標準片基體金屬的電性質，應當與試件基體金屬的電性質相似。
基體金屬厚度
檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，無損檢測資源網 如果沒有，可采用3.3中的某種方法進行校準。
膜厚儀在什么條件下測量更準確？
基體金屬特性：
對于磁性方法，標準片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應當與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。
對于渦流方法，標準片基體金屬的電性質，應當與試件基體金屬的電性質相似。
基體金屬厚度
檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，無損檢測資源網 如果沒有，可采用3.3中的某種方法進行校準。
邊緣效應
不應在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內轉角等處進行測量。
曲率
不應在試件的彎曲表面上測量。
讀數次數
通常由于儀器的每次讀數并不*相同，因此必須在每一測量面積內取幾個讀數。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內進行多次測量，表面粗造時更應如此。
表面清潔度
測量前，應清除表面上的任何附著物質，如塵土、油脂及腐蝕產物等，但不要除去任何覆蓋層物質。
儀器適用范圍l 濕膜厚度檢測。l 干膜、硬涂層厚度檢測。l 玻璃、塑料、凝膠、光刻膠、電介質厚度檢測。l 汽車工業中薄膜、光油、底漆厚度檢測。l 醫療設備中藥囊、藥品覆膜、包裝薄膜厚度檢測。l 光伏產業中透明導電氧化膜、減反射膜厚度檢測。l 食品包裝中卷式薄膜、液體隔離膜厚度檢測。三、 樣品要求l 薄膜在200-1100nm內的某一波段可部分透光。l 薄膜厚度范圍：0.5um-100um（不同厚度范圍采用不同配置）。l 基底表面和薄膜表面平整光潔。四、產品配置l 主控制箱內部包含光源、光譜儀、運動系統控制器。
通過USB線與電腦連接。
12V3A供電。
